ارائه مکانیزم حلقه جای خالی به عنوان یک مکانیزم جدید جهت اکسیداسیون نیکل در دمای بالا

دو قطعه نیکلی، یکی بدون پوشش و دیگری با پوشش پلاتین در دمای 1070 درجه سانتیگراد در هوای ساکن تحت اکسیداسیون قرار گرفتند. ساختار دو لایه اکسید نیکل به وسیله میکروسکوپ الکترونی روبشی مشاهده شد. لایه اکسیدی شامل یک لایه درونی هم محور و متخلخل و یک لایه بیرونی متراکم و ستونی می باشد. مارکر ها (پوشش پلاتینی) که روی سطح فلز قبل از آزمایش قرار داده شده بودند، بعداز آزمایش در فصل مشترک بین لایه متراکم خارجی و لایه متخلخل داخلی قرار داشتند، حضور مارکرها در فصل مشترک بین لایه متراکم و متخلخل پوسته نشان می دهد که لایه خارجی به وسیله مهاجرت کاتیون به بیرون و لایه داخلی به وسیله مهاجرت اکسیژن به داخل رشد می کند. در تحقیق حاضر مدل جدیدی ارائه می گردد که به وسیله آن منشا به وجود آمدن ساختار دو لایه اکسید نیکل توضیح داده می شود. در این مدل واکنش نقص جای خالی نیکل در فصل مشترک پوسته - فلز موجب به وجود آمدن یک جای خالی اکسیژن باردار می شود. نفوذ جای خالی اکسیژن باردار به وجود آمده به سمت خارج از سطح اکسید شروعی برای به وجود آمدن دانه های ریز هم محور داخلی می شود. بنابراین مکانیزم اصلی رشد لایه اکسید نیکل به وسیله دو مکانیزم توجیه می شود: 1- با نفوذ به سمت داخل جای خالی نیکل باردار 2- با نفوذ به سمت خارج جای خالی اکسیژن باردار. در این راستا جای خالی اکسیژن باردار در اثر مصرف شدن جای خالی نیکل به وجود می آیند.

کلیدواژه ها:

ساختار دو لایه ، اکسیداسیون نیکل ، جای خالی نیکل باردار ، جای خالی اکسیژن باردار ، مکانیزم حلقه جای خالی