مطالعه فتورسانایی پلی پیرول سنتز شده به روش الکتروشیمیایی در ناحیه مادون قرمز نزدیک

استفاده از پلیمرهای هادی به دلیل داشتن خواصی منحصر به فرد در ابزارهای الکترونیکی مورد توجه بسیاری از محققین در دهه های اخیر بوده است. پلی پیرول یکی از انواع پلیمرهای هادی می باشد که به دلایلی همچون سهولت تهیه، ارزان بودن و پایداری فیزیکی کاربرد گسترده ای در حوزه اپتوالکترونیک دارد. در این 1 تهیه شده از پایداری خوبی برخوردار بود. سپس به منظور بررسی خواص فوتورسانایی، این پلیمر در برابر لیزر مادون قرمز نزدیک که طول موجی برابر با 850 nm تولید می کرد، قرار گرفت. با تابش نور مادون قرمز، جریان خروجی از سیستم اندازه گیری، ثبت گردید که نشان دهنده ی خاصیت فوتورسانایی پلی یپرول با جذب نور مادون قرمز نزدیک بود. این بررسی، در سه توان تابشی 15.40، 93.30 و 173.37 میلی وات از لیزر مادون قرمز انجام گرفت. مشاهدات نشان داد که با افزایش توان لیزر، پلی یپرول خاصیت فوتورسانایی بیشتری از خود نشان می دهد که این افزایش در فوتورسانایی با افزایش در مقدار جریان تولید شده توسط پلی یپرول نشان داده می شود. رفتار فوتوسانایی پلی یپرول با افزایش توان تابش لیزر، خطی می باشد. حساسیت نوری پلی پیرول تهیه شده در برابر توان تابشی173.35 میلی وات،111.8 محاسبه گردید.