Study of masks used in glass etch industry
محل انتشار: ششمین کنگره بین المللی رنگ و پوشش
سال انتشار: 1394
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: انگلیسی
مشاهده: 488
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ICCC06_262
تاریخ نمایه سازی: 25 بهمن 1394
چکیده مقاله:
Surface etching technique is commonly used for industrial decoration of glasses. Hydrofluoric acid (HF) solutions or pastes, pure or mixed with other chemicals, are employed as strong corrosive agents to engrave chemically the glass surface. In the wet etching method protective layers as masks are required extensively to prevent the extent of HF to undesired regions. Here, in this study, we are mostly concerned with mask chemical employed in glass etching technique on different surfaces. Thus, analytical tests on the provided industrial masks have been studied. FTIR for detecting base resin, XRD for analyzing major pigments, PSA for determining particle size and distribution techniques have been studied. Results have indicated two different resins; unsaturated polyester and acrylic polymer (PMMA) diluted with monomer styrene. Talc and sulfur are analyzed as major fillers or pigments with 10 µm particle size. Finally, different mask formulations have been compounded and tested primarily for HF resistant penetration..
کلیدواژه ها:
Glass etching- Hydrofluoric acid- Corrosive chemical- Mask and screen printing
نویسندگان
H. Ahmadi Moghaddam
Inorganic Pigment and Glazes Department, Institute for Color Science and Technology, Tehran, Iran
H. Padash
Inorganic Pigment and Glazes Department, Institute for Color Science and Technology, Tehran, Iran
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :