بررسی اثرتابع کارگیت سه فلزی برعملکرد FinFET با کانال احاطه شده توسط گیت
محل انتشار: بیستمین کنفرانس مهندسی برق ایران
سال انتشار: 1391
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 2,291
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ICEE20_017
تاریخ نمایه سازی: 14 مرداد 1391
چکیده مقاله:
دراین مقاله اثرتابع کارگیت سه فلزی برروی عملکرد ترانزیستور FinFET با کانال احاطه شده توسط گیت بررسی شده است این ساختار توسط ATLAS Silvaco شبیه سازی شده و نتایج آن نشان میدهند که با انتخاب فلز با تابع کار مناسب می توان آثار کانال کوتاه را کاهش داد و همچنین به دلیل افزایش کنترل گیت برروی کانال بارهای ناشی از درین درکانال کاهش یافته درنتیجه DIBL کاهش می یابد و عملکرد زیرآستانه نزدیک به ایده آل را نشان میده DIBL برابر با1/4mv/v و شیب زیراستانه کمتر از 65mv/dec گواهی برادعای ما می باشند.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
حمیده ذوالفقاری
دانشگاه تربیت معلم سبزوار
سیدابراهیم حسینی
دانشگاه فردوسی مشهد
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :