اسیلاتور حلقوی کنترل شده با ولتاژ با استفاده از ترانزیستورهای اثر میدان نانو لوله کربنی
سال انتشار: 1394
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 731
فایل این مقاله در 7 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ICEECS02_004
تاریخ نمایه سازی: 9 مرداد 1395
چکیده مقاله:
با توجه به محدودیتهای که تکنولوژی مدارات مجتمع سیلیکونی با کاهش مقیاس روبرو است با کشف ترانزیستورهای اثر میدان نانولوله کربنی CNTFET در سالهای اخیر این تکنولوژی به عنوان جایگزینی مناسب برای ترانزیستورهای سیلیکونی مورد بررسی قرار گرفته است در این مقاله به طراحی اسیلاتور کنترل شده با ولتاژ VCO با استفاده از این تکنولوژی پرداخته شده است نوع اسیلاتور مطرح شده اسیلاتور حلقوی تکر سر سه مرحله ای می باشد شبیه سازی مدار با استفاده از نرم افزار Hspice با تکنولوژی 32 nm انجام گرفته است نتایج شبیه سازی نشان می دهد که در مقایسه با CMOS با طول کانال مشابه فرکانس موج خروجی 16 برابر افزایش و توان مصرفی 3.36 برابر کاهش یافته است
کلیدواژه ها:
نویسندگان
سجاد بیات
دانشجوی دانشگاه آزاد اسلامی بندرعباس
سید علی حسینی
استادیار دانشگاه آزاد اسلامی یادگار امام (ره)شهرری
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :