بررسی اثر تعداد و مکان گیت های اعمال شده بر مشخصه جریان ولتاژ ترانزیستور اثر میدان نانوسیم استوانه ای
محل انتشار: هشتمین کنفرانس ملی مهندسی برق و الکترونیک ایران
سال انتشار: 1395
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 362
فایل این مقاله در 6 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ICEEE08_103
تاریخ نمایه سازی: 11 مرداد 1396
چکیده مقاله:
در این مقاله ترانزیستور اثر میدان نانوسیم استوانه ای InAs با استفاده از مدل انتقال رانش نفوذ در محیط نرم افزار سیلواکو - شبیه سازی شده است. اثر مکان و تعداد گیت های ترانزیستور نانوسیم بر مشخصه های جریان ولتاژ آن مورد بررسی قرار گرفته شده است. نتایج - نشان می دهند که با افزایش تعداد گیت ها اندازه جریان و رسانندگی ترانزیستور افزایش می یابد. برای ساختارهای چند گیتی بهترین نتیجه مربوط به آرایشی می باشد که ناحیه مرکزی کانال را تحت کنترل داشته باشد.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
غزال ذوالفقاری
گروه مهندسی برق الکترونیک، پردیس علوم و تحقیقات دماوند، دانشگاه آزاد اسلامی، دماوند، ایران : گروه مهندسی برق الکترونیک، واحد دماوند، دانشگاه آزاد اسلامی دماوند، ایران
حجت اله خواجه صالحانی
گروه مهندسی برق الکترونیک، واحد دماوند، دانشگاه آزاد اسلامی، دماوند، ایران
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :