تشخیص خطای مقاوم با استفاده از روش H2/H∞ برای سیستمهای فتوولتائیک
محل انتشار: پنجمین کنفرانس ملی مهندسی برق و مکاترونیک ایران
سال انتشار: 1398
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 321
فایل این مقاله در 20 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ICELE05_319
تاریخ نمایه سازی: 26 بهمن 1398
چکیده مقاله:
برای مشکل حفاظتی تکنیک عیب یابی بر اساس اندازه گیری های پارامترهای فتوولتائیک نظیر ولتاژ ، جریان ، شدت تابش ، دما و... مطرح میشود. در حال حاضر یکی از مشکلات الگوریتم تشخیص عیب در پنل سلولهای خورشیدی عدم توانایی آن ها در شناسایی محل دقیق رویداد عیب در سیستم است. در این پژوهش به تشخیص و شناسایی مقاوم در برابر عیب در سیستم های فتوولتائیک با استفاده از روش H2/H∞ پرداخته شده است . سیستم های واقعی همواره شامل نامعینی یا عدم قطعیتهایی میباشند که این نامعینی ها میتواند ناشی از عدم قطعیت در حضور اغتشاش باشد. برای نشان دادن کارایی این روش تفاضل خروجی سیستم را با خروجی مدل که سیگنال باقیمانده میباشد با استفاده از شبیه سازی مشاهده و تحلیل کرده تا کارایی لازم را برای ادامه کار سیستم تضمین کند. هدف اصلی ارائه یک سیستم تشخیص و شناسایی عیب((FDI به روش مقاوم میباشد به گونه ای که تاثیر عیب روی مدل را بیشینه کند تا عیب را به وسیله سیگنال باقیمانده تشخیص دهد و سیستم در مقابل اغتشاش مقاوم باشد تا به کار خود ادامه دهد. روش مقاوم با استفاده از H2/H∞ یکی از روشهایی است که کارایی سیستم را در حضور اغتشاش و عدم قطعیت های مختلف تضمین میکند.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
فرهاد راسخ
دانشکده مهندسی برق و رباتیک، دانشگاه صنعتی شاهرود، شاهرود، ایران
محمدعلی صدرنیا
دانشکده مهندسی برق و رباتیک، دانشگاه صنعتی شاهرود، شاهرود، ایران