تحلیل فرایند Lithography توسط شبیه سازی المان محدود و اصلاح مدل قطعه به روش تحلیل حساسیت

سال انتشار: 1387
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,056

فایل این مقاله در 10 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

ICME09_152

تاریخ نمایه سازی: 5 آبان 1388

چکیده مقاله:

یکی از روشهای نمونه سازی روش stereo lithography می باشد که در آن قسمت مشخصی از سطح رزین مایع توسط نور لیزر و یا منبع دیگر از انرژی به جامد تبدیل می شود در این حالت عمل تبدیل شدن رزین به جامد همراه با کاهش حجم آن یا همان شیرینکیج می باشد. شیرینکیج و تغییر شکل های پیچشی (تاب برداشتن) از اصلی ترین فاکتورهایی است که باعث عدم دقت در قطعه می شود، بخصوص در مورد قطعات توخالی. به طور معمول طراحان سعی می کنند با قرار دادن ساپورتر ها در کنار مدل از تغییر شکل بیشتر آن جلوگیری کنند اما در پایان با جدا کردن ساپورتر، مدل به راحتی تغییر شکل می دهد و در حقیقت زمان و هزینه ای را که برای ساخت ساپورتر مصرف کرده است را از دست داده. در اینجا ما با تحلیل های المان محدود تغییر شکل سطوح خارجی مدل را در طول فرایند ساخت محاسبه می کنیم و در نهایت با انجام تحلیل حساسیت مدل اصلاح شده ای را ارایه می دهیم که می تواند بعد از ساخت دقت مورد نیاز طراح را فراهم کند.

نویسندگان

حمید شاه محمدی

دانشجوی کارشناسی ارشد ساخت و تولید دانشگاه امیرکبیر

محسن حبیبی

دانشجوی کارشناسی ارشد ساخت و تولید دانشگاه امیرکبیر

بهروز آرزو

استادیار دانشگاه امیرکبیر

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • _ Rapid Prototyping and Manufacturing _ lithography, ASM Press, New ...
  • H. Narahara, et al. Reaction heat effects on initial linear ...
  • نمایش کامل مراجع