جبرانسازی و حذف اثرات خزش و هیسترزیس در دستگاههای ساخت نانوسازه

این مقاله قسمت دوم کار بسیار ارزشمندی است که نهایتاً در پایان به مدلی جدید جهت جبرانسازی اثرات غیرخطی در دستگاه ساخت قطعات نانو منجر می شود. در این قسمت، بر اساس رهیافت جدیدی که برای مدلسازی اثرات غیرخطی شامل خزش و هیسترزیس در اسکنرهای پیزوتیوبی ارائه شد، یک الگوریتم جبرانسازی طراحی و پیاده سازی شده است. انعطاف پذیری که از خصوصیات بارز رفتار ولتاژ - جابجایی است، در الگوریتم جبرانسازی به خوبی قابل مشاهده است. با اعمال این جبرانسازی، به صورت همزمان، مقایسه با نتایج تجربی نشان می دهند که این روش بسیار موثر بوده و حتی هیسترزیس های با شکل نامتقارن و دامنه های کوچک و بزرگ را نیز دنبال می کند.

کلیدواژه ها:

هیسترزیس ، انعطاف پذیری ، میکروسکوپ پروبی روبشی ، نانوسازه ، خزش