حساسیت پاسخ های جانبی نگار دوتایی به عوامل محیطی

جانبی نگار دوتایی به منظور اندازه گیری مقاومت ویژه سازند غیر آغشته در آنسوی نواحی آغشته طراحی شده و از دو سیستم کانونی کننده ی مجزا مد عمیق و مد کم عمق بهره می گیرد. عوامل محیطی متعددی از قبیل ضخامت لایه ی تحت نگاربرداری، مقاومت ویژه ی لایه های مجاور آن، عمق و مقاومت ویژه ناحیه آغشته، شعاع چاه و غیره روی مقاومت ویژه ی اندازه گیری شده تأثیرگذار هستند. در این مقاله، اندازه گیریهای مد کم عمق و مد عمیق را در سازندهای لایه بندی شدهی همسانگرد، آغشته، غیر آغشته و فاقد شیب به روش المان محدود مرتبه اول، مدل کرده و اثرات برخی از عوامل محیطی اشاره شده را را روی مقاومت ویژه در محیط های مصنوعی سه لایه بررسی می شود. برای محاسبه ی جریان های کانونی شونده، روش کانونی کنندگی ساختگی کوزولینو را به کار می گرفته شد. نتایج نشان می دهند و با افزایش مقاومت ویژه ی لایه های مجاور نسبت بهمقاومت ویژه ی لایه ی تحت نگاربرداری، مقدار مقاومت ویژه ی قرائت شده توسط ابزار افزایش می یابد؛ با کاهش ضخامت لایه، قرائت های مقاومت ویژه از مقدار واقعی فاصله ی بیشتری می گیرند. در لایه های بسیار ضخیم، منحنی های فاکتور هندسی مد کم عمق و مد عمیق برای همه ی شعاع های آغشتگی کاملاً از هم فاصله می گیرند.

کلیدواژه ها:

مدل سازی ، جانبی نگار ، المان محدود ، کانونی کنندگی کوزولینو