Effect of annealing on the Optical Properties of AlN Nanostructured thin films by DC Reactive Magnetron Sputtering
سال انتشار: 1393
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: انگلیسی
مشاهده: 530
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ICNN05_809
تاریخ نمایه سازی: 30 آبان 1394
چکیده مقاله:
Aluminium Nitride Nano-Nano-structured thin films were deposited on quartz substrate (fused quartz) by DCreacqve magnetron spuering. The substrate was 400 ̊C. They were annealed at 650 and 850 C for 45 min in thepresence of nitrogen gas. To study optical properties of the samples and their morphology, UV-V spectrum and SEM micrographs respectively. after annealing, the films behave like an insulator. Optical transmission and optical band gap were increased and the roughness of layers was decreased after annealing.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
V Davoodi
Department of Physics, University of Tabriz, Tabriz, Iran
M Parhizkar
Department of Physics, University of Tabriz, Tabriz, Iran
P Norouz zadeh
Department of Physics, University of Tabriz, Tabriz, Iran
N Nazari
Department of Physics, University of Tabriz, Tabriz, Iran