بررسی ویزگی های اپتیکی و الکتریکی لایه های نازک نیتریدمس Cu3N لایه نشانی شده به روش کندو پاش مگنترونی واکنشی DC

سال انتشار: 1387
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,259

متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

ICOPTICP15_099

تاریخ نمایه سازی: 10 دی 1387

چکیده مقاله:

در این کار تجربی لایه های نازک نیتریدمس به روش کندو پاش مگنترونی واکنشی DC بر روی زیر لایه های شیشه ای نهشته شده اند . برای نهشت لایه ها آهنگ شارش آرگن در sccm25 ثابت و آهنگ شارش نیتوزن از sccm15-2/5 تغییر داده شدهاند . آنالیز پراش اشعه ایکس نشان می دهد که فیلم های نیترید مس از طریق عملیات حرارتی در دمای c200 تجزیه می شوند و بررسی های آنالیز UV/VIS/NIR نشان می دهد ککه مقدار گا اپتیکی لایه های نیترید مس در رنجی از 0/8-1/8eV تغییر می کند . این نتایج نشان میدهد که ماده نیترید مس دارای یک پتانسیل عالی برای استفاده در وسایل انبارنده اپتیکی یکبار قابل نوشتن (تک رایت ) می باشد

کلیدواژه ها:

کندو پا مگنترونی واکنشی ، عملیات حرارتی ، گاف اپتیکی ، انبارنده اپتیکی یکبار قابل نوشتن (تک رایت )

نویسندگان

حسن بیدادی

گروه حالت جامد و الکتونیک ، دانشکده فیزیک ، دانشگاه تبریز ،

بیان کریمی

گروه حالت جامد و الکتونیک ، دانشکده فیزیک ، دانشگاه تبریز

فرامرز هادیان

گروه حالت جامد و الکتونیک ، دانشکده فیزیک ، دانشگاه تبریز

علی رحمتی

گروه حالت جامد و الکتونیک ، دانشکده فیزیک ، دانشگاه تبریز

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • A . Perez , P.Melinon, V .Dupui S, P.Jen son.J.Phys. ...
  • M.Mikula, D _ Buc, E.Pincik. Acta Physica Slovaca 5 1, ...
  • A.L. Ji_, R. Huang, Y. Du, C.R. Li, Y.Q. Wang, ...
  • Kwang Joo Kim, J. H. Kim, J. H. Lang.Journal of ...
  • D.M .B orsa, D.O.B Oerma. Surface Science 54895- 105, (2004). ...
  • X.Y. Fan , Z.G. Wu , G.A. Zhang, C. Li, ...
  • A . V . Richthofen , R. Domnick, R.Cremer, Mikrochim ...
  • K.J . Kim, J _ H. Kim, J. H. Kang.J. ...
  • Priyamvada Bhardwaj , P.K. Shishodia, R. M.Mehra , J _ ...
  • نمایش کامل مراجع