فرآیند پرتاب قطرات مذاب در کندگی لیزری سیلیکون با تپهای نانوثانیه در محیط دی متیل سولفواکساید
محل انتشار: شانزدهمین کنفرانس اپتیک و فوتونیک ایران
سال انتشار: 1388
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,193
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ICOPTICP16_326
تاریخ نمایه سازی: 18 تیر 1388
چکیده مقاله:
در این مقاله کندگی لیزری سیلیکون در محیط دی متیل سولفواکساید (DMSO) مورد بررسی قرار می گیرد. نتایج تجربی با استفاده از هماهنگ دوم لیزر نئودیمیوم یاگ با طور تپ 15 نانوثانیه و طول موج 532 نانومتر بدست آمده است. درمقایسه با آهنگ کندگی در هوا و آب، مشاهده می شود که آهنگ کندگی در محیط DMSO به طور چشمگیری بهتر شده است. بررسی تغییرات سطحی ایجاد شده برروی سیلیکون توسط میکروسکوپ الکترونی روبشی نشان میدهد که پدیده کندگی در اثر تشکیل یک لایه مذاب و پرتاب قطرات مذاب ایجاد شده است. عمق کندگی از سطح سیلیکون در محیط DMSO در شدتهای مختلف اندازه گیری شده و سپس با استفاده از مدل ارایه شده براساس فرایند پرتاب قطرات مذاب برازش شده مشاهده می شود که محاسبات تئوری با نتایج تجربی همخوانی کاملی دارد.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
مجید طاهری
گروه فیزیک، دانشگاه شهید بهشتی، اوین، تهران
روح الله کریم زاده
گروه فیزیک، دانشگاه شهید بهشتی، اوین، تهران
نسترن منصور
گروه فیزیک، دانشگاه شهید بهشتی، اوین، تهران