رشد فیلم و حفره دار شدن آلومینیوم

آلومینیوم فلز سبکی است که کاربرد آن در صنایع مختلف باعث افزایش روز افزون اهمیت انشده است. این فلز را می توان با روشهای مختلف شکل داده و بمنظور بهبود خواص سطحی آنودایز نمود. سطح آلومینیوم همواره لایه ای از اکسید بضخامت 2-10nm دارد که در حین آنودایزینگ این ایه رشد کرده و ضخیم تر می شود. آلومینیوم بخاطر وجود این لایه اکسیدی پیو بوده و مقاومت خوردگی خوبی از خود نشان میدهد لیکن در محیطهای قلیائی شدید و یا در محیطهای دریائی و یا در الکترولیتهای محتوی یون کلرپسیویته آلومینیوم از بین رفته و فلز دچار خوردگی از نوع حفره دار شدن pitting می شود. دانستن مکانیزم از بین رفتن پسیویته و حفره دار شدن می تواند د رجلوگیری از این پدیده ها راهگشا باشد. تئوریهای متعددی در مورد چگونگی ایجاد حفره بر روی Al وجود دارد که در ذیل باختصار بآنها اشاره می شود از طرفی انودایزینگ عملی است که می تواند تا حدودی جلوی حفره دار شدن Al را بگیرد و در این مقاله تقابل بین رشد فیلم بر روی Al در محیطهای کلر دار و حفره دار شدن آن در این محیطها بررسی گشته و مکانیزم حفره دار شدن آلومینیوم مورد مطالعه قرار میگیرد.