CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)
عنوان
مقاله

رشد دما پایین نانو بلورهای سیلیکان و ژرمانیم به کمک پلاسمای RF هیدروژن برای ساخت ترانزیستورهای لایه نازک

اعتبار موردنیاز: ۱ | تعداد صفحات: ۳ | تعداد نمایش خلاصه: ۱۲۸۳ | نظرات: ۰
سرفصل ارائه مقاله: ماده چگال
سال انتشار: ۱۳۸۴
نوع ارائه: پوستر
کد COI مقاله: IPC84_094
زبان مقاله: فارسی
حجم فایل: ۲۷۴.۸۳ کلیوبایت
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

راهنمای دانلود فایل کامل این مقاله

اصل مقاله فوق در بانک مقالات سیویلیکا موجود نیست. مقالات کنفرانس‌های کشور توسط دبیرخانه‌های مربوط منتشر می‌شوند و در صورتی که اصل مقاله توسط دبیرخانه منتشر نشده باشد، امکان ارائه آن توسط سیویلیکا وجود ندارد. در صورتی که نویسنده این مقاله هستید، می‌توایند اصل مقاله را جهت درج در بانک مقالات به سیویلیکا ارسال نمایید.

خرید و دانلود PDF مقاله

متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

مشخصات نویسندگان مقاله رشد دما پایین نانو بلورهای سیلیکان و ژرمانیم به کمک پلاسمای RF هیدروژن برای ساخت ترانزیستورهای لایه نازک

پویا هاشمی - آزمایشگاه تحقیقاتی لایة نازک، گروه مهندسی برق و کامپیوتر، دانشکدة ف
یاسر عبدی - آزمایشگاه تحقیقاتی لایة نازک، گروه مهندسی برق و کامپیوتر، دانشکدة ف
سیدشمس الدین مهاجرزاده - آزمایشگاه تحقیقاتی لایة نازک، گروه مهندسی برق و کامپیوتر، دانشکدة ف
جابر درخشنده - آزمایشگاه تحقیقاتی لایة نازک، گروه مهندسی برق و کامپیوتر، دانشکدة ف

چکیده مقاله:

ساختارهای نانو بلوری سیلیکان و ژرمانیم به کمک هیدروژناسیون با پلاسمای RF و حرارت دهی در چندین مرحله متوالی و بدون نیاز به استفاده از فلز ، بر بستر شیشه ای رشد داده شده اند . این فرآیند منجر به ایجاد ساختار های دانه ای سیلیکان و ژرمانیم با اندازه متوسط دانه کمتر از 100 نانومتر به ترتیب در دماهای پایین150 °C و 250 °Cمی شود . اثر توان پلاسمای هیدروژن در دماهای مختلف بر روی بلورینگی این لایه ها به کمک آنالیز TEMو SEM بررسی شده اند . با کنترل دمای حرارت دهی و توان پلاسما ، لایه های چند بلوره سیلیکان و ژرمانیم با کیفیت افزاره ای رشد داده شده اند که می توان از آنها در ساخت ترانزیستورهای لایه نازک که در الکترونیک مساحت بزرگ ارزان قیمت کاربرد دارند ، استفاده کرد

کلیدواژه‌ها:

کد مقاله/لینک ثابت به این مقاله

برای لینک دهی به این مقاله، می توانید از لینک زیر استفاده نمایید. این لینک همیشه ثابت است و به عنوان سند ثبت مقاله در مرجع سیویلیکا مورد استفاده قرار میگیرد:
https://www.civilica.com/Paper-IPC84-IPC84_094.html
کد COI مقاله: IPC84_094

نحوه استناد به مقاله:

در صورتی که می خواهید در اثر پژوهشی خود به این مقاله ارجاع دهید، به سادگی می توانید از عبارت زیر در بخش منابع و مراجع استفاده نمایید:
هاشمی, پویا؛ یاسر عبدی؛ سیدشمس الدین مهاجرزاده و جابر درخشنده، ۱۳۸۴، رشد دما پایین نانو بلورهای سیلیکان و ژرمانیم به کمک پلاسمای RF هیدروژن برای ساخت ترانزیستورهای لایه نازک، کنفرانس فیزیک ایران 1384، خرم آباد، دانشگاه لرستان، https://www.civilica.com/Paper-IPC84-IPC84_094.html

در داخل متن نیز هر جا که به عبارت و یا دستاوردی از این مقاله اشاره شود پس از ذکر مطلب، در داخل پارانتز، مشخصات زیر نوشته می شود.
برای بار اول: (هاشمی, پویا؛ یاسر عبدی؛ سیدشمس الدین مهاجرزاده و جابر درخشنده، ۱۳۸۴)
برای بار دوم به بعد: (هاشمی؛ عبدی؛ مهاجرزاده و درخشنده، ۱۳۸۴)
برای آشنایی کامل با نحوه مرجع نویسی لطفا بخش راهنمای سیویلیکا (مرجع دهی) را ملاحظه نمایید.

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :

  • S.R. Herd, P. Chaudhari and M.H. Brodsky;، #Metal Contact Induced ...
  • Stress؟، [2] P. Hashemi, J. D erakhshandeh, and S. Mohaj ...
  • Hekmatshoar, B., Shahrjerdi, D., Mohaj erzadeh, S.; *Low Temperature Crystallization ...
  • مدیریت اطلاعات پژوهشی

    اطلاعات استنادی این مقاله را به نرم افزارهای مدیریت اطلاعات علمی و استنادی ارسال نمایید و در تحقیقات خود از آن استفاده نمایید.

    مقالات مرتبط جدید

    شبکه تبلیغات علمی کشور

    به اشتراک گذاری این صفحه

    اطلاعات بیشتر درباره COI

    COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
    کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.