CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)
عنوان
مقاله

مقایسه الگوپذیری دو پلیمر Photoresist و SU-8 طی فرایند نانولیتوگرافی توسطAFM

اعتبار موردنیاز: ۱ | تعداد صفحات: ۳ | تعداد نمایش خلاصه: ۱۱۶۸ | نظرات: ۰
سرفصل ارائه مقاله: ماده چگال نانوساختارها
سال انتشار: ۱۳۸۶
نوع ارائه: شفاهی
کد COI مقاله: IPC86_065
زبان مقاله: فارسی
حجم فایل: ۲۳۲.۹۴ کلیوبایت
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

راهنمای دانلود فایل کامل این مقاله

اصل مقاله فوق در بانک مقالات سیویلیکا موجود نیست. مقالات کنفرانس‌های کشور توسط دبیرخانه‌های مربوط منتشر می‌شوند و در صورتی که اصل مقاله توسط دبیرخانه منتشر نشده باشد، امکان ارائه آن توسط سیویلیکا وجود ندارد. در صورتی که نویسنده این مقاله هستید، می‌توایند اصل مقاله را جهت درج در بانک مقالات به سیویلیکا ارسال نمایید.

خرید و دانلود PDF مقاله

متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

مشخصات نویسندگان مقاله مقایسه الگوپذیری دو پلیمر Photoresist و SU-8 طی فرایند نانولیتوگرافی توسطAFM

  محمد عبدالاحد - دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف
  امید اخوان - دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف
  سودابه واثقی نیا - دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف
  علیرضا مشفق - دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف، پژوهشکده علوم و فناوری نانو،دانشگ

چکیده مقاله:

در این تحقیق، با استفاده از میکروسکوپ نیزوی اتمی (AFM) عمل لیتوگرافی در ابعاد نانومتری بر روی پلیمرهای Photoresist و SU-8 به عنوان ماسک توسط روش لایه نشانی چرخشی تهیه گردید . سپس الگوپذیری بر سطح این دو پلیمر از نظر تغییر شکل پلاستیکی Si انجام شد . ماسک های مزبور بر سطح زیر لایه در حین فرایند لیتوگرافی برروی دو پلیمر، تحقیق گشته AFM با استفاده از تحلیل ارتفاع خطوط ایجاد شده بررسی شد . به علاوه اثر افزایش سرعت روبش سوزن است

کلیدواژه‌ها:

کد مقاله/لینک ثابت به این مقاله

برای لینک دهی به این مقاله، می توانید از لینک زیر استفاده نمایید. این لینک همیشه ثابت است و به عنوان سند ثبت مقاله در مرجع سیویلیکا مورد استفاده قرار میگیرد:
https://www.civilica.com/Paper-IPC86-IPC86_065.html
کد COI مقاله: IPC86_065

نحوه استناد به مقاله:

در صورتی که می خواهید در اثر پژوهشی خود به این مقاله ارجاع دهید، به سادگی می توانید از عبارت زیر در بخش منابع و مراجع استفاده نمایید:
عبدالاحد, محمد؛ امید اخوان؛ سودابه واثقی نیا و علیرضا مشفق، ۱۳۸۶، مقایسه الگوپذیری دو پلیمر Photoresist و SU-8 طی فرایند نانولیتوگرافی توسطAFM، کنفرانس فیزیک ایران 1386، دانشگاه یاسوج، https://www.civilica.com/Paper-IPC86-IPC86_065.html

در داخل متن نیز هر جا که به عبارت و یا دستاوردی از این مقاله اشاره شود پس از ذکر مطلب، در داخل پارانتز، مشخصات زیر نوشته می شود.
برای بار اول: (عبدالاحد, محمد؛ امید اخوان؛ سودابه واثقی نیا و علیرضا مشفق، ۱۳۸۶)
برای بار دوم به بعد: (عبدالاحد؛ اخوان؛ واثقی نیا و مشفق، ۱۳۸۶)
برای آشنایی کامل با نحوه مرجع نویسی لطفا بخش راهنمای سیویلیکا (مرجع دهی) را ملاحظه نمایید.

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :

  • Geottert.J, Datta P. , Microsystem Tech nolo0gies, 2007, 1 3 ...
  • Gaubert, H.E, Frey, W. _ Nanotech nolo0gy 2007, 18, P13. ...
  • Yang H. , Lee h., Lee J., Proceedings of International ...
  • Magnetism and Magnetic MateriaIs, 2006, 304, P 19. ...
  • Rezek, B, Garrido, J.A, Stutzm ann, M., ...
  • NJebel, CE.E, Snidero, E., Bergonzo, .P, Physica Status Solidi (A) ...
  • H.D.F. Filho, M.H.P. Mauricio, C.R. Ponciano, R. Prioli, Mater. Sci. ...
  • S. Kassavetis, K. Mitsakakis, S. Logothetidis, Mater. Sci. Eng. C ...
  • علم سنجی و رتبه بندی مقاله

    مشخصات مرکز تولید کننده این مقاله به صورت زیر است:
    نوع مرکز:
    تعداد مقالات: ۱۸۲۵۲
    در بخش علم سنجی پایگاه سیویلیکا می توانید رتبه بندی علمی مراکز دانشگاهی و پژوهشی کشور را بر اساس آمار مقالات نمایه شده مشاهده نمایید.

    مدیریت اطلاعات پژوهشی

    اطلاعات استنادی این مقاله را به نرم افزارهای مدیریت اطلاعات علمی و استنادی ارسال نمایید و در تحقیقات خود از آن استفاده نمایید.

    مقالات پیشنهادی مرتبط

    مقالات مرتبط جدید

    شبکه تبلیغات علمی کشور

    به اشتراک گذاری این صفحه

    اطلاعات بیشتر درباره COI

    COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
    کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.