ساخت نانوذرات اکسید تنگستن به روش تخلیه قوس الکتریکی در محیط آب

سال انتشار: 1386
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 2,284

متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

IPC86_070

تاریخ نمایه سازی: 20 دی 1385

چکیده مقاله:

نانوذرات اکسید تنگستن به روش تخلیه قوس الکتریکی در محیط آب دو بار یونیزه ساخته شده اند . نتایج آنالیز پراکندگی نور (DLS) نمونه ها بیانگر تشکیل ذراتی با اندازه 30 nm در جریان قوس 125 A است و با افزایش جریان قوس، اندازه ذرات به دست آمده بزرگتر شده و توزیع آنها نیز گسترده تر می گردد . تصاویر میکروسکوپ (AFM) نشان می ده ند که با افزایش جریان تخلیه قوس الکتریکی اندازه نانوذرات نیز بزرگ می شوند . تصویر میکروسکوپ نیروی اتمی (SEM) الکترونی روبشی نانوذرات نشانده شده بر روی زیر لایه سیلیکن نیز با نتایج آنالیزSEM و DLS سازگار است . طیف پراکندگی اشعه ایکس (XRD) و طیف سنجی اشعه ایکس (XPS) نمونه ها نشان دهنده تشکیل فاز تری اکسید تنگستن و وضعیت شیمیایی WO3 بر روی سطح نانوذرات است.

نویسندگان

علی اکبر اشکاران

پژوهشکده علوم و فناوری نانو، دانشگاه صنعتی شریف

اعظم ایرجی زاد

پژوهشکده علوم و فناوری نانو، دانشگاه صنعتی شریف، دانشکده فیزیک، دانش

محمدمهدی احدیان

پژوهشکده علوم و فناوری نانو، دانشگاه صنعتی شریف

سیداحمد مهدوی اردکانی

دانشکده صنعت هواپیمایی کشوری، تهران