CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)
عنوان
مقاله

بررسی تاثیر پارامترهای ساختاری بر مشخصههای الکتریکی افزارههای نانومتری DG-SOI MOSFETs در ناحیه زیر آستانه

اعتبار موردنیاز: ۱ | تعداد صفحات: ۴ | تعداد نمایش خلاصه: ۸۷۷ | نظرات: ۰
سرفصل ارائه مقاله: ماده چگال الکترونیک
سال انتشار: ۱۳۸۶
نوع ارائه: شفاهی
کد COI مقاله: IPC86_094
زبان مقاله: فارسی
حجم فایل: ۲۱۴.۳۲ کلیوبایت (فایل این مقاله در ۴ صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد)

راهنمای دانلود فایل کامل این مقاله

اگر در مجموعه سیویلیکا عضو نیستید، به راحتی می توانید از طریق فرم روبرو اصل این مقاله را خریداری نمایید.
با عضویت در سیویلیکا می توانید اصل مقالات را با حداقل ۳۳ درصد تخفیف (دو سوم قیمت خرید تک مقاله) دریافت نمایید. برای عضویت در سیویلیکا به صفحه ثبت نام مراجعه نمایید. در صورتی که دارای نام کاربری در مجموعه سیویلیکا هستید، ابتدا از قسمت بالای صفحه با نام کاربری خود وارد شده و سپس به این صفحه مراجعه نمایید.
لطفا قبل از اقدام به خرید اینترنتی این مقاله، ابتدا تعداد صفحات مقاله را در بالای این صفحه کنترل نمایید. در پایگاه سیویلیکا عموما مقالات زیر ۵ صفحه فولتکست محسوب نمی شوند و برای خرید اینترنتی عرضه نمی شوند.
برای راهنمایی کاملتر راهنمای سایت را مطالعه کنید.

خرید و دانلود PDF مقاله

با استفاده از پرداخت اینترنتی بسیار سریع و ساده می توانید اصل این مقاله را که دارای ۴ صفحه است در اختیار داشته باشید.

قیمت این مقاله : ۳۰,۰۰۰ ریال

آدرس ایمیل خود را در زیر وارد نموده و کلید خرید با پرداخت اینترنتی را بزنید. آدرس ایمیل:

رفتن به مرحله بعد:

در صورت بروز هر گونه مشکل در روند خرید اینترنتی، بخش پشتیبانی کاربران آماده پاسخگویی به مشکلات و سوالات شما می باشد.

مشخصات نویسندگان مقاله بررسی تاثیر پارامترهای ساختاری بر مشخصههای الکتریکی افزارههای نانومتری DG-SOI MOSFETs در ناحیه زیر آستانه

  مرتضی فتحی پور - دانشیار دانشگاه تهران
  حامد نعمتیان - دانشجوی کارشناسی ارشد الکترونیک، دانشگاه صنعتی مالک اشتر ، تهران
  فاطمه کهنی - دانشجوی کارشناسی ارشد الکترونیک، دانشگاه صنعتی مالک اشتر ، تهران

چکیده مقاله:

در این مقاله به بررسی اثرات تغییر پارامترهای ساختاری بر روی مشخصههای الکتریکی افزاره نانومتری ماسفت دو گیتی سیلیکان بر روی عایق DG-SOI MOSFETs در ناحیه زیر آستانه پرداخته شده است . شبیه سازیهای انجام شده نشان میدهند که کاهش ضخامت بدنه منجر به کاهش ارتفاع سد پتانسیل و افزایش خازن موثر گیت (CG,eff) میشود، در صورتیکه جریان حالت روشن افزاره (ION) کاهش می یابد . با کاهش طول نواحی سورس و درین (LD/LS) ، خازنهای لبهای(CFringe) کوچک می گردند و در نتیجه CG,eff کاهش می یابد، این در حالی است که مشخصه جریان - ولتاژ و نیز ارتفاع سد پتانسیل تغییر چندانی نمی کنند

کلیدواژه‌ها:

کد مقاله/لینک ثابت به این مقاله

برای لینک دهی به این مقاله، می توانید از لینک زیر استفاده نمایید. این لینک همیشه ثابت است و به عنوان سند ثبت مقاله در مرجع سیویلیکا مورد استفاده قرار میگیرد:
https://www.civilica.com/Paper-IPC86-IPC86_094.html
کد COI مقاله: IPC86_094

نحوه استناد به مقاله:

در صورتی که می خواهید در اثر پژوهشی خود به این مقاله ارجاع دهید، به سادگی می توانید از عبارت زیر در بخش منابع و مراجع استفاده نمایید:
فتحی پور, مرتضی؛ حامد نعمتیان و فاطمه کهنی، ۱۳۸۶، بررسی تاثیر پارامترهای ساختاری بر مشخصههای الکتریکی افزارههای نانومتری DG-SOI MOSFETs در ناحیه زیر آستانه، کنفرانس فیزیک ایران 1386، دانشگاه یاسوج، https://www.civilica.com/Paper-IPC86-IPC86_094.html

در داخل متن نیز هر جا که به عبارت و یا دستاوردی از این مقاله اشاره شود پس از ذکر مطلب، در داخل پارانتز، مشخصات زیر نوشته می شود.
برای بار اول: (فتحی پور, مرتضی؛ حامد نعمتیان و فاطمه کهنی، ۱۳۸۶)
برای بار دوم به بعد: (فتحی پور؛ نعمتیان و کهنی، ۱۳۸۶)
برای آشنایی کامل با نحوه مرجع نویسی لطفا بخش راهنمای سیویلیکا (مرجع دهی) را ملاحظه نمایید.

علم سنجی و رتبه بندی مقاله

مشخصات مرکز تولید کننده این مقاله به صورت زیر است:
نوع مرکز:
تعداد مقالات: ۶۳۸۷۴
در بخش علم سنجی پایگاه سیویلیکا می توانید رتبه بندی علمی مراکز دانشگاهی و پژوهشی کشور را بر اساس آمار مقالات نمایه شده مشاهده نمایید.

مدیریت اطلاعات پژوهشی

اطلاعات استنادی این مقاله را به نرم افزارهای مدیریت اطلاعات علمی و استنادی ارسال نمایید و در تحقیقات خود از آن استفاده نمایید.

مقالات پیشنهادی مرتبط

مقالات مرتبط جدید

شبکه تبلیغات علمی کشور

به اشتراک گذاری این صفحه

اطلاعات بیشتر درباره COI

COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.