نانو ساختار نیترید سیلیکون در نانو قطعات الکترونیکی

رشد کوچک شدگی سریع ضخامت گیت دی الکتریک باعث شده است تا اکسید سیلیکون فوق نازک را نتوان به عنوان گیت دی الکتریک مناسب در ترانزیستور های آتیCMOSدانست از جمله مواد جانشین نیترید سیلیکون است که داده های سیکروترونی و تجزیه و تحلیل ساختار فیلم مزبور با Fitxps نشان داده شده است که از لایه میانی ( آمورف ) با زیر لای های سیلیکون برخوردار است . چون لایه آمورف باعث کاهش جریان تونل زنی ونشتی می شود می تواند به عنوان یک گیت دی الکتریک مناسب باشد