اندازه گیری HVL فیلتر Ni و مطالعه تأثیر آن بر سختی اشعه X
محل انتشار: کنفرانس فیزیک ایران 1387
سال انتشار: 1387
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,538
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
IPC87_106
تاریخ نمایه سازی: 24 آذر 1388
چکیده مقاله:
فیلترهای اشعه X برای حذف طیف نرم و اشعه X اختصاصی عنصر هدف در دستگاههای اشعهX به کار می روند که باعث سخت شدن طیف اشعه X حاصل می شود . در این کار فیلم هایی از نیکل به عنوان فیلتر به ضخامت اسمی 250-10 میکرون به روش الکتروانباشت تهیه شد. HVL فیلتر نیکل را با قرار دادن ضخامتهای مختلف فیلتر مقابل اشعه اندازه گرفتیم.برای بررسی تأثیر فیلتر روی سختی اشعه ورقه ای از آلومینیوم یکبار در غیاب فیلتر نیکل و بار دیگر در حضور آن اندازه گیری شد. با سخت شدن اشعه در حضور فیلتر HVL ، Ni آلومینیوم افزایش نشان میدهد.
نویسندگان
حسین ترکاشوند
گروه فیزیک دانشگاه اراک
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :