CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)
عنوان
مقاله

Effect of Process Parameters on Electrical Properties of Chromium thin films deposited on ITO substrate by Rf sputtering through Solar cells

اعتبار موردنیاز: ۱ | تعداد صفحات: ۵ | تعداد نمایش خلاصه: ۱۲۶۰ | نظرات: ۰
سرفصل ارائه مقاله: الکترونیک
سال انتشار: ۱۳۹۰
نوع ارائه: پوستر
کد COI مقاله: ISCEE14_045
زبان مقاله: انگلیسی
حجم فایل: ۷۷۱.۷۴ کلیوبایت (فایل این مقاله در ۵ صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد)

راهنمای دانلود فایل کامل این مقاله

اگر در مجموعه سیویلیکا عضو نیستید، به راحتی می توانید از طریق فرم روبرو اصل این مقاله را خریداری نمایید.
با عضویت در سیویلیکا می توانید اصل مقالات را با حداقل ۳۳ درصد تخفیف (دو سوم قیمت خرید تک مقاله) دریافت نمایید. برای عضویت در سیویلیکا به صفحه ثبت نام مراجعه نمایید. در صورتی که دارای نام کاربری در مجموعه سیویلیکا هستید، ابتدا از قسمت بالای صفحه با نام کاربری خود وارد شده و سپس به این صفحه مراجعه نمایید.
لطفا قبل از اقدام به خرید اینترنتی این مقاله، ابتدا تعداد صفحات مقاله را در بالای این صفحه کنترل نمایید. در پایگاه سیویلیکا عموما مقالات زیر ۵ صفحه فولتکست محسوب نمی شوند و برای خرید اینترنتی عرضه نمی شوند.
برای راهنمایی کاملتر راهنمای سایت را مطالعه کنید.

خرید و دانلود PDF مقاله

با استفاده از پرداخت اینترنتی بسیار سریع و ساده می توانید اصل این مقاله را که دارای ۵ صفحه است در اختیار داشته باشید.

قیمت این مقاله : ۳۰,۰۰۰ ریال

آدرس ایمیل خود را در زیر وارد نموده و کلید خرید با پرداخت اینترنتی را بزنید. آدرس ایمیل:

رفتن به مرحله بعد:

در صورت بروز هر گونه مشکل در روند خرید اینترنتی، بخش پشتیبانی کاربران آماده پاسخگویی به مشکلات و سوالات شما می باشد.

مشخصات نویسندگان مقاله Effect of Process Parameters on Electrical Properties of Chromium thin films deposited on ITO substrate by Rf sputtering through Solar cells

Elahe Akbarnejad - Azad Islamic University of Iran-Center Tehran Branch, Tehran, Iran
  Ebrahim Asl Soleimani - Thin film laboratory, ECE Department, University of Tehran, Tehran, Iran

چکیده مقاله:

In order to obtain a suitable ohmic contact with the lowest resistivity, Chromium (Cr) thin films were deposited on transparent conductive oxide indium tin oxide (ITO) by RF sputtering method in argon atmosphere and its electrical properties were optimized. The deposition of Cr thin film has been performed for the layers with thickness of 150, 300 and 600 nm in constant Ar gas flow of 30sccm. Results show that the lowest contact resistivity belongs to the layer with 600 nm thickness. Furthermore Cr/ITO has been studied for five different Rf power of 100,150,200,250 and 300 W while the deposition with constant thickness of 600 nm Cr, which gave us the lowest contact resistivity. Experimental results show that the best specific contact resistance achieved at Rf power of 150W with amount of 4.7×10-2 cm2.The prepared samples were characterized using a field emission scanning electron microscope

کلیدواژه‌ها:

Chromium, ITO, Rf Sputtering, SEM

کد مقاله/لینک ثابت به این مقاله

برای لینک دهی به این مقاله، می توانید از لینک زیر استفاده نمایید. این لینک همیشه ثابت است و به عنوان سند ثبت مقاله در مرجع سیویلیکا مورد استفاده قرار میگیرد:
http://www.civilica.com/Paper-ISCEE14-ISCEE14_045.html
کد COI مقاله: ISCEE14_045

نحوه استناد به مقاله:

در صورتی که می خواهید در اثر پژوهشی خود به این مقاله ارجاع دهید، به سادگی می توانید از عبارت زیر در بخش منابع و مراجع استفاده نمایید:
Akbarnejad, Elahe & Ebrahim Asl Soleimani, ۱۳۹۰, Effect of Process Parameters on Electrical Properties of Chromium thin films deposited on ITO substrate by Rf sputtering through Solar cells, چهاردهمین کنفرانس دانشجویی مهندسی برق ایران, کرمانشاه, دانشگاه کرمانشاه, سازمان علمی دانشجویی مهندسی برق کشور, http://www.civilica.com/Paper-ISCEE14-ISCEE14_045.html

در داخل متن نیز هر جا که به عبارت و یا دستاوردی از این مقاله اشاره شود پس از ذکر مطلب، در داخل پارانتز، مشخصات زیر نوشته می شود.
برای بار اول: (Akbarnejad, Elahe & Ebrahim Asl Soleimani, ۱۳۹۰)
برای بار دوم به بعد: (Akbarnejad & Asl Soleimani, ۱۳۹۰)
برای آشنایی کامل با نحوه مرجع نویسی لطفا بخش راهنمای سیویلیکا (مرجع دهی) را ملاحظه نمایید.

مدیریت اطلاعات پژوهشی

اطلاعات استنادی این مقاله را به نرم افزارهای مدیریت اطلاعات علمی و استنادی ارسال نمایید و در تحقیقات خود از آن استفاده نمایید.

مقالات پیشنهادی مرتبط

مقالات مرتبط جدید

شبکه تبلیغات علمی کشور

به اشتراک گذاری این صفحه

اطلاعات بیشتر درباره COI

COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.