ارزیابی رابطه درجه حرارت برگ و عملکرد سویا با محلول پاشی رویو سالیسیلیک اسید تحت تنش کم آبی
سال انتشار: 1394
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 643
فایل این مقاله در 7 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
ISCONF01_137
تاریخ نمایه سازی: 12 تیر 1395
چکیده مقاله:
در این تحقیق رابطه درجه حرارت برگ و میزان کلروفیل برگ با عملکرد دانه گیاه سویا, تحت تنش کم آبی با محلول پاشی روی وسالیسیلیک اسید در قالب طرح بلوکهای کامل تصادفی با چهار تکرار در باغ کشاورزی استان لرستان مورد بررسی قرار گرفت.تیمارهای آزمایش شامل دو سطح 60( آبیاری مطلوب) و120( تنش) میلیمتر تبخیر از تشتک تبخیر کلاس Aبه عنوان عامل اصلیو محلول پاشی عنصر روی (عدم مصرف، مصرف) و سالیسیلیک اسید (صفر، 0/5و 1میلی مولار) به عنوان عامل فرعی در نظر گرفتهشدند. نتایج بدست آمده نشان داد که درجه حرارت برگ با عملکرد دانه همبستگی مثبت و غیرمعنیداری داشت. محلول پاشی روی و 0/5میلی مولار اسید سالیسیلیک سبب افزایش میزان کلروفیل برگ گردید. کلروفیل برگ همبستگی مثبت و معنیداری با عملکرددانه داشت. در شرایط تنش، افزایش غلظت اسید سالیسیلیک موجب افزایش صفات مورد بررسی شد. با کاربرد روی و اسیدسالیسیلیک خسارت ناشی از تنش جبران شده و عملکرد را افزایش دادند. اثرات متقابل سه گانه، تاثیر معنیداری بر تعداد دانه ساقهفرعی داشته است. دو صفت درجه حرارت و کلروفیل برگ بعنوان دو معیار غیرمستقیم انتخاب برای بهبود عملکرد دانه تحت شرایطتنش کمآبی مورد استفاده قرار گیرد.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
زینب زارعی
دانشجوی کارشناسی ارشد گروه زراعت، واحد خرم آباد، دانشگاه آزاد اسلامی، خرم آباد، ایران
جهانفر دانشیان
استاد موسسه تحقیقات اصلاح و تهیه نهال و بذر کرج، بخش تحقیقات دانه های روغنی
علی خورگامی
استادیار گروه زراعت، واحد خرم آباد، دانشگاه آزاد اسلامی، خرم آباد، ایران
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :