بررسی تاثیر اختلاف پتانسیل در فرآیند آندایزینگ سخت بر روی توپوگرافی سطح نانوحفرات آلومینای تولید شده

سال انتشار: 1396
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 558

فایل این مقاله در 8 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

ISSE18_049

تاریخ نمایه سازی: 2 تیر 1397

چکیده مقاله:

آلیاژهای آلومینیوم به دلیل هدایت حرارتی، استحکام ویژه بالا و مقاومت به خوردگی به صورت گسترده در کاربرد های مهندسی استفاده می شود. آلومینیوم آندایز شده بستگی به نوع کاربرد آن توپوگرافی های مختلفی می تواند داشته باشد یکی از پارامترهای موثر بر تغییرات توپوگرافی و زبری سطح تغییرات اختلاف پتانسیل اعمالی در فرایند است. در این پژوهش در 4 ولتاژ مختلف به ترتیب در 40، 45، 50، 55 ولت توپوگرافی سطح مورد بررسی قرار گرفت که نمونه سوم بالاترین مقدار زبری را دارد و با افزایش ولتاژ از این مقدار به 55 ولت به دلیل انحلال لایه اکسید آلومینیوم تشکیل شده زبری کاهش می یابد.

نویسندگان

محمدرضا رحیمی پور

کرج پژوهشگاه مواد و انرژی پژوهشکده سرامیک

عارف معماری

کرج پژوهشگاه مواد و انرژی پژوهشکده سرامیک

جواد فهیم

مرکز تحقیقات مواد پیشرفته، دانشکده مهندسی مواد، واحد نجف آباد، دانشگاه آزاد اسلامی نجف آباد ایران