واکاوی تکنولوژی ساخت ترانزیستورهای CMOS سیلیکونی با رویکرد کاهش ابعاد در مقیاس نانو

سال انتشار: 1396
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,193

فایل این مقاله در 12 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

ITCT04_085

تاریخ نمایه سازی: 17 آبان 1396

چکیده مقاله:

پیشرفت های اخیر صورت گرفته در حوزه طراحی مدارت VLSI نشان می دهد که ترانزیستورهای CMOS سیلیکونی در طول سالیان متمادی پتانسیل زیادی جهت فرآیند کوچک سازی و کاهش ابعاد در راستای تحقق قانون گوردن مور از خود نشان داده اند . مهمترین ویژگی های عملکردی این قبیلترانزیستورها در مقایسه با همتایان، تداوم افزایش سرعت عملکرد و کاهش توان تلفاتی همگام با روند کوچک سازی ابعاد در مقیاس نانو می باشد. اما با وجود مزایایی که در فرآیند کوچک سازی این قبیل ترانزیستورها رخ می دهد محدودیت های گسترده ای نیز ناشی از این امر پدید می آید که بیشتر اینمحدودیت ها از دیدگاه کوانتومی مطرح می گردد. از اینرو با ظهور تکنولوژی های جدید از قبیل ترانزیستورهای نانو لوله کربنی و رفع بسیاری از چالش های مطرح شده توسط آنها می توان انتظار داشت که در آینده ای نزدیک باید شاهد پایان عمر ترانزیستورهای CMOS سیلیکونی باشیم

نویسندگان

علیرضا خلیلی

گروه مخابرات، دانشکده مهندسی برق ، دانشگاه پدافند هوایی خاتم الانبیا(ص)، تهران

روح الله روحانی فر

مدرس گروه الکترونیک، دانشکده مهندسی برق، دانشگاه پدافند هوایی خاتم الانبیا(ص)تهران

سیدوحید حسینی

مدرس گروه الکترونیک، دانشکده مهندسی برق، دانشگاه پدافند هوایی خاتم الانبیا(ص)تهران