اثر نووالاک و چندبلور لایه ای گرافیت بر نفوذ استون و مقاومت گرمایی نانوکامپوزیت های برپایه لاستیک نیتریل

پیدایش محیط هایی با قدرت نفوذ زیاد هم زمان با وجود سیالاتی با قدرت تخریب سامانه های پلیمری، باعث شده است تا قطعه هایی که در تماس با چنین محیط هایی قرار می گیرند، به سرعت تغییرشکل داده یا از هم پاشیده شوند. از این رو، امروزه نیاز به موادی با مقاومت در برابر نفوذسیالات توجه را به خود معطوف کرده است. در این مقاله، اثر افزایش چندبلور لایه ای گرافیت و رزین فنولی در نانوکامپوزیت نیتریل-نووالاک-چندبلور لایه ای گرافیت بر مقاومت در برابر نفوذ استون ونیز پایداری گرمایی آن بررسی شده است. نتایج به دست آمده از آزمون های تورم در استون وتحلیل گرمایی مکانیکی-دینامیکی ( DMTA ) نشان داد، نمونه ها پس از 32 h به % 2/ 94 از مقدارتورم نهایی می رسند. با به کارگیری معادله آورامی و داده های تجربی، تابعیت تورم، ( m/m0 )،Lnبه درصد وزنی نووالاک، چندبلور لایه ای گرافیت و زمان به دست آمده است که مقدار ( m/m0 ) Ln ، را پس از 32 h با خطا به طور متوسط % 29 / 5 ارزیابی می کند. افزایش درصد چندبلور لایه ای گرافیت باعث کاهش نفوذ استون، کاهش مدول پیش از دمای انتقال شیشه ای و افزایش پایداری گرمایی نمونه هامی شود. افزایش درصد نووالاک تا % 35 وزنی، باعث کاهش نفوذ استون، افزایش سازگاری، دمای انتقال شیشه ای و پایداری گرمایی نانوکامپوزیت می شود. در نانوکامپوزیت دارای % 45 وزنی نووالاک، نتایج آزمون DMTA جدایی فاز سامانه را نشان می دهد، در حالی که با شکل شناسیآمیزه ها به وسیله میکروسکوپ الکترونی پویشی ( SEM ) جدایی فاز به طور بسیار جزیی رخ داده است که طی آن، بخش های گرماسخت و الاستومر سامانه از هم جدا می شوند.

کلیدواژه ها:

لاستیک پلی آکریلونیتریل ، بوتادی ان ، رزین نووالاک ، چندبلور لایه ای گرافیت ، مقاومت گرمایی ، نفوذ