نقش تاریخ کاشت، مصرف قارچ کش بنومیل و پتاسیم سیلیکات در افزایش کیفیت بذر سویا رقم ‘ویلیامز’

تحقیق حاضر با هدف بررسی تاثیر تاریخ کاشت، محلول پاشی قارچ کش بنومیل و پتاسیم سیلیکات در بهبود کیفیت بذر سویا (رقم &ویلیامز ) در سالهای 91-1390 در گرگان انجام گرفت. تیمارهای آزمایش در سال اول شامل تاریخ کاشت (31 فروردین، 23اردیبهشت، 13 خرداد، 8 تیر و 31 تیر) و مصرف قارچ کش بنومیل در دو مرحله R3 و R6 بود، و در سال دوم شامل تاریخ کاشت (11اردیبهشت و 15 تیر)، مصرف قارچکش بنومیل، مصرف سیلیکون (Si (و سیلیکون + بنومیل بود. سیلیکون بهصورت پتاسیم سیلیکات محلول در آب در سه مرحله (V6 ،R1 و R4 (و با غلظت 40 گرم در لیتر بر روی برگها محلول پاشی شد. نتایج نشان داد که افزایش دمای هوا طی دوره پر شدن بذر (R7-R5 (در تاریخ کاشتهای زودهنگام مهمترین عامل کاهش کیفیت بذر است. همچنین توده های بذری آلوده به .sp Phomopsis و .sp Nigrospora همبستگی منفی معناداری با جوانهزنی و قدرت بذ ر داشتند. تاخیر در کاشت ازطریق کاهش دما طی دوره پر شدن بذر و نیز کاهش آلودگی به این دو بیمارگر سبب افزایش کیفیت بذر شد. از طرف دیگر، مصرف قارچکش بنومیل و پتاسیم سیلیکات با کاهش آلودگیهای قارچی در تودههای بذری و افزایش جوانهزنی و قدرت بذر موجب بهبود کیفیت بذر شدند. بنابراین، تاخیر در کاشت رقم زودرس ویلیامز، محلولپاشی پتاسیم سیلیکات و نیز قارچ کش بنومیل در مراحل زایشی را میتوان بهعنوان راهکارهایی بهمنظور افزایش کیفیت بذر این رقم به کشاورزان و تولیدکنندگان بذر در گرگان توصیه کرد.

کلیدواژه ها:

پتاسیم سیلیکات ، دما ، قارچکش ، کیفیت بذر ، .sp Phomopsis