مروری برروشهای تهیه لایه های نازک دی اکسیدتیتانیم برای استفاده درسل های خورشیدی حساس شده به موادرنگزا

دردودهه گذشته نسل سوم سل های خورشیدی یعنی سل های خورشیدی حساس به موادرنگزا یاسلهای گراتزل نسبت به سل های سیلیکونی به دلیل قیمت پایین تولید و بازده نسبتا بالای تبدیل نور به جریان الکتریسیته بسیار موردتوجه قرارگرفته ان د یکی ازبخشهای مهم سلهای خورشیدی حساس به مواد رنگزا لایه دی اکسیدتیتانیم پوشش داده شده برروی FTO می باشد که نقش دریافت کننده الکترون تهیج یافته ماده رنگزا و انتقال آن به سطح FTO است بنابراین تهیه و اعمال این لایه نقش بسیارمهمی درعملکرد سل های خورشیدی حساس به مواد رنگزا دارد روشهای تهیه و اعمال این لایه به دوطبقه کلی روش فیزیکی و روش شیمیای تقسیم میشود روشهای فیزیکی شامل پالس لیزری و اسپاترینگ بوده و روش شیمیایی شامل بخارشیمیایی سل - ژل پوشانش غرقه ای پوشانش چرخشی لایه نشانی افشانش گرمایی و الکرتوپوشانش است روشهای شیمیایی به دلیل سهولت انجام عدم نیاز به تجهیزات و شرایط ازمایشگاهی پیچیده نسبت به روشهای فیزیکی بیشتر موردتوجه هستند درمیان روشهای شیمیایی فرایند سل - ژل به دلیل امکان کنترل ویژگی ها و ضخامت لایه تهیه شده باسهولت و دقت بالا برتری بیشتری دارد و بیش ازسایر روشها درحال رشد و مطالعه است هدف این مقاله معرفی روشهای مختلف درتهیه لایه های نازک دی اکسید تیتانیم برای استفاده درسلهای خورشید حساس به مواد رنگزا می باشد

کلیدواژه ها:

سل خورشیدی حساس به ماده رنگزا ، خواص فوتوولتاییک ، دی اکسیدتیتانیم ، سل - ژل ، پالس لیزری