مروری بر ویژگی های فوتوکاتالیستی نانوکامپوزیت های حاوی اکسیدگرافن جهت استفاده در غشاهای پلیمری به منظور تخریب پساب های رنگی

سال انتشار: 1398
نوع سند: مقاله ژورنالی
زبان: فارسی
مشاهده: 724

فایل این مقاله در 10 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

JR_JSCW-9-1_003

تاریخ نمایه سازی: 19 تیر 1398

چکیده مقاله:

صنعت نساجی یکی از صنایعی است که پساب آن ها به عنوان یکی از بزرگ ترین مخاطرات محیط زیست شناخته می شود. پساب این صنعت حاوی مقدار زیادی ماده رنگزا ، مواد شیمیایی و فلزات سنگین استکه برای سلامتی انسان و محیط زیست خطرناک هستند. انعقاد، روش زیستیو اکسایش پیشرفتهازجمله روش های کاربردی هستند که در تصفیه پساب ها مورداستفاده قرار می گیرند. سازوکار اصلی فرآیندهای اکسایش پیشرفته بر پایه تولید رادیکال هیدروکسیل است که این رادیکال ها قادرند ترکیبات مقاوم در برابر اکسایش را تخریب کنند. همچنین، استفاده از نیمه رساناهایی با شکاف انرژی مناسب که بتوانند پاسخ خوبی در برابر تهییج نور مرئی از خود نشان دهند به بهبود این فرآیند کمک شایانی می کند. از طرفی، اکسید گرافن کاهش یافته برای بهبود خواص فوتوکاتالیستی و درنتیجه بهبود حرکت الکترون ها به کار گرفته می شوند. لذا، همراهی این دو ماده در کامپوزیت، بازده عملکرد فوتوکاتالیستی را به میزان قابل توجهی افزایش داده و سبب ایجاد خواص جذب بالا و رسانایی شده که این امر سبب می شود، تخریب نوری آلودگی ها به مقدار به سزایی تسهیل گردد. حال، قرارگیری این مواد در غشا پلیمری، ضمن بهبود فرآیند فوتوکاتالیستی از ورود ذرات کاتالیزورنوری به داخل پساب تصفیه شده نیز ممانعت به عمل می آورد.

نویسندگان

مهسا گل محمدی

انشجوی کارشناسی ارشد، الف) دانشکده مهندسی پلیمر و رنگ، ب) پژوهشکده رنگ و پلیمر، دانشگاه صنعتی امیرکبیر

علی اصغر صباغ الوانی

دانشیار، پژوهشکده رنگ و پلیمر، دانشگاه صنعتی امیرکبیر،

حسن سامعی

استاد پژوهشگر، پژوهشکده رنگ و پلیمر، دانشگاه صنعتی امیرکبیر

رضا سلیمی

استاد پژوهشگر، پژوهشکده رنگ و پلیمر، دانشگاه صنعتی امیرکبیر

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • س. گندمی، ع. ا. صباغ الوانی، ع. بقایی، ح. سامعی، ...
  • A. Ghaly, R. Ananthashankar, M. Alhattab, V. Ramakrishnan, process technology ...
  • S. Zhezhova, S. Risteski, G. Saska, Methods for waste waters ...
  • M. A., M. J., M. Ashokkumar, and P. Arunachalam, A ...
  • Akihiko Kudo,  K. Omori, H. Kato, A novel aqueous process ...
  • G. Al-Sayyed, J. C. D’Oliveira, P. Pichat, Semiconductor-sensitized photodegradation of ...
  • Y. Gao, M. Hu, B. Mi, Membrane surface modi fi ...
  • P. Dong, G. Hou, X. Xi, R. Shao, F. Dong, ...
  • H. Khojasteh, M. Salavati-Niasari, F. S. Sangsefidi, Photocatalytic evaluation of ...
  • M. Singh, S. Kaushal, P. Singh, J. Sharma, Boron doped ...
  • J. Grzechulska-Damszel, M. Tomaszewska, A. W. Morawski, Integration of photocatalysis ...
  • N. M. Mahmoodi, M. Arami, N. Y. Limaee, N. S. ...
  • R. Peng, Q. Wu, X. Chen, R. Ghosh, Purification of ...
  • L. J. Larsen, C. J. Shearer, A. V. Ellis, J. ...
  • B. B. Wang, B. Gao, X. X. Zhong, R. W. ...
  • M. Singh, S. Kaushal, P. Singh, J. Sharma, Boron doped ...
  • J. Wang, B. Chen, B. Xing, Wrinkles and folds of ...
  • G. Jeevitha, R. Abhinayaa, D. Mangalaraj, N. Ponpandian, Tungsten oxide-graphene ...
  • E. Rokhsat, O. Akhavan, Improving the photocatalytic activity of graphene ...
  • P. V. Kamat, Graphene-Based Nanoarchitectures. Anchoring semiconductor and metal nanoparticles ...
  • R. Huang, H. Ge, X. Lin, Y. Guo, R. Yuan, ...
  • H. Khojasteh, M. Salavati-niasari, F. Sadat, Photocatalytic evaluation of RGO ...
  • Y. Gao, M. Hu, B. Mi, Membrane surface modification with ...
  • A. Malathi, J. Madhavan, M. Ashokkumar, P. Arunachalam, General A ...
  • M. R. U. D. Biswas, W. C. Oh, R. Ud, ...
  • نمایش کامل مراجع