تعیین مشخصه های اپتیکی لایه های نازک هنگام فرایند لایه گذاری در خلاء بدون اندازه گیری مستقیم ضرایب بازتاب یا عبور نور از نمونه
محل انتشار: مجله پژوهش فیزیک ایران، دوره: 1، شماره: 3
سال انتشار: 1376
نوع سند: مقاله ژورنالی
زبان: فارسی
مشاهده: 336
فایل این مقاله در 5 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
JR_PSI-1-3_005
تاریخ نمایه سازی: 30 دی 1397
چکیده مقاله:
در این مقاله مشخصه های اپتیکی لایه های نازک در حین فرایند لایه نشانی در خلا بوسیله یک روش نسبتا ساد و اندازه گیری می شود. در این روش پیشنهادی با استفاده از نسبت، مقدار سیگنال کمینه ضریب عبور (T) به مقدار بیشینه آن (7) یعنی = = Gt از طریق روابط فرتل بدون اندازه گیری مستقیم ضریبه عبور می توان دیگر کمیتهای مورد نیاز از قبیل ضریب شکست ماده و یا ضریب بازتاب در فصل مشترک لایه - زیر لایه را بدست آورد. این روش برای تعیین مشخصه های اپتیکی مواد Na AIF ، PDF ، MgF3 ، Zns و As S انجام گردید. نتایج حاصل با نتایج روش طیف نورسنجی مقایسه شد و سازگاری خوبی تا دو رقم اعشار بدست آمد. کاربرد این روش برای ساخت سیستمهای چند لا یهای حساس به نور ارایه می شود.
نویسندگان
آ.پ. آوچرنکو
بخش فیزیک اپتیک دانشکده فیزیک دانشگاه ایالتی خارکف، اوکراین
ارشمید نهال
بخش فیزیک اپتیک دانشکده فیزیک دانشگاه ایالتی خارکف، اوکراین
اس.و. ماشکینا
بخش فیزیک اپتیک دانشکده فیزیک دانشگاه ایالتی خارکف، اوکراین
ی.ایی پلاوسکایا
بخش فیزیک اپتیک دانشکده فیزیک دانشگاه ایالتی خارکف، اوکراین