تغییر ترشوندگی لایه اکسید گرافین با استفاده از کاهش به روش فوتوکاتالیستی
محل انتشار: مجله پژوهش فیزیک ایران، دوره: 16، شماره: 1
سال انتشار: 1395
نوع سند: مقاله ژورنالی
زبان: فارسی
مشاهده: 421
فایل این مقاله در 7 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
JR_PSI-16-1_004
تاریخ نمایه سازی: 30 دی 1397
چکیده مقاله:
در این مقاله نتایج اثر کاهش فوتوکاتالیستی بر آبدوستی ورقه های اکسید گرفین ارایه میگردد . ورقه های اکسید گرافین از طریق اکسید کردن گرافیت طبیعی و ورقه ورقه کردن آن با شوک مکانیکی تهیه شده و سپس در حضور نانوذرات دی اکسید تیتانیوم تحت تابش اشعه فرابنفش قرار گرفتند. طیف سنجی رامان و میکروسکوپ نیروی اتمی نشان دادند که با افزایش تابش میزان زبری در سطح افزایش مییابد. همچنین میزان آبدوستی نمونه ها با اندازهگیری زاویه تماسی قطرات میکرولیتری آب دیونیزه، نشان داد که با افزایش مدت زمان تابش تا 8 ساعت زاویه تماسی نمونه ها از حدود 72 درجه تا حدود 98 درجه افزایش مییابد.
کلیدواژه ها: