رشد و بررسی خواص نانو ساختاری اکسید تیتانیوم و نیتراید آلومینیوم
محل انتشار: مجله پژوهش فیزیک ایران، دوره: 8، شماره: 1
سال انتشار: 1387
نوع سند: مقاله ژورنالی
زبان: فارسی
مشاهده: 423
فایل این مقاله در 7 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
JR_PSI-8-1_001
تاریخ نمایه سازی: 30 دی 1397
چکیده مقاله:
اکسید تیتانیوم و نیترید آلومینیوم را در شرایط به ترتیب فشار بالا و فشار بسیار پایین بر زیر لایه سیلیکونی رشد داده ایم و با استفاده از تکنیکهایی نظیر تابش سینکروترونی ( AES ( Auger Electron Spectroscopy و SEM ( Scanning Electron Microscope به مطالعه ساختار آنها پرداختیم. بررسیهای به عمل آمده نشان می دهند که فیلم آمورف اکسید تیتانیوم و یا نیترید آلومینیوم بر زیر لایه سیلیکون شکل گرفته است که این ویژگی در کنار بالا بودن ثابت دی الکتریک آنها، می تواند از آنها یک گیت دی الکتریک مناسب به جای اکسید فرا نازک سیلیکون بسازد.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
علی بهاری
گروه فیزیک، دانشکده علوم پایه، دانشگاه مازندران، بابلسر
کبرا حسن زاده
گروه فیزیک، دانشکده علوم پایه، دانشگاه مازندران، بابلسر
مونا امیرصادقی
گروه فیزیک، دانشکده علوم پایه، دانشگاه مازندران، بابلسر
ماندانا رودباری
گروه فیزیک، دانشکده علوم پایه، دانشگاه مازندران، بابلسر