Nucleation and Growth of Graphene on Polycrystalline Cu by Low Pressure Chemical Vapor Deposition
سال انتشار: 1393
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: انگلیسی
مشاهده: 715
فایل این مقاله در 7 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
MATHPHY02_153
تاریخ نمایه سازی: 30 شهریور 1394
چکیده مقاله:
This paper investigates the effects of growth time on the quality of graphene synthesized by low pressure chemical vapor deposition (LPCVD). Large-area single Layered Graphene is synthesized on polycrystalline Cu foil (~1cm2) by LPCVD. The synthesized graphene was characterized using Raman spectroscopy and scanning electron microscopy (SEM).The Raman spectrum showed a IG/I2D ~ 0.2 ratio which indicates that all samples are single-layer graphene and the SEM images demonstrate that the domain size increases when the growth time increases. The growth mechanism of LPCVD graphene on Cu and the mechanisms governing the Raman scattering process in the films are also discussed. The results provide important guidance toward the synthesis of high quality uniform graphene films.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
Azadeh jafari
Plasma Physics Research Center Islamic Azad University Science and Research Branch
Samineh Sarbazi Golazari
Plasma Physics Research Center Islamic Azad University Science and Research Branch
Mahmood Ghorannevis
Plasma Physics Research Center Islamic Azad University Science and Research Branch
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :