بررسی خواص فیزیکی اکسید روی شبه گرافینی در حضور اتم هیدروژن

سال انتشار: 1397
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 598

فایل این مقاله در 9 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

MNTECH01_081

تاریخ نمایه سازی: 23 آذر 1397

چکیده مقاله:

در این مقاله با استفاده از نظریه تابع چگالی خواص الکترونیکی صفحه اکسید روی بدون ناخالصی و سپس خواص صفحه ی اکسید روی در حضور اتم هیدروژن را بررسی کردهایم که شامل ساختار نواری و چگالی حالات الکترونی میباشد. نشان داده ایم چگالی حالات صفحه اکسیدروی باحضور اتم هیدروژن در مقایسه با چگالی حالات صفحه اکسید روی بدون هیدروژن تفاوت دارد و مشاهده کردیم حضوراتم هیدروژن، باعث ایجاد خاصیت مغناطیسی در نمونه و به دنبال آن پهن شدگی توزیع الکترون در گستره انرژی میشود. همچنین با توجه به نمودار ساختار نواری و با کوچک شدن اندازه گاف انرژی اکسید روی با حضور ناخالصی نسبت به حالت بدون ناخالصی و قرارگرفتن تراز فرمی در نوار رسانش، به این نتیجه رسیدیم که صفحه اکسیدروی باحضور اتم هیدروژن خاصیت رسانندگی دارد

نویسندگان

پروانه کریمی

دانشکده فیزیک پلاسما، واحد علوم و تحقیقات، دانشگاه آزاد اسلامی، تهران، ایران

لیلا اسلامی

دانشگاه آزاد اسلامی واحد علوم و تحقیقات، تهران، ایران