رشد لایه نازک هماتیت (α-Fe2O3) بر روی FTO با استفاده از رسوب بخار شیمیایی و بررسی کاربرد آن در سلول های فوتوالکتروشیمیایی

امروزه با توجه به بحران انرژی در زمینه اتمام منابع انرژی های فسیلی و سهم عمده آنها در آلودگی های زیست محیطی و گازهای گلخانه ای استفاده از منابع انرژی جدید و تجدیدپذیر به شدت مورد توجه قرار گرفته است. از این میان هیدروژن به دلیل فراوانی، مصرف منحصر به فرد، انتشار بسیار ناچیز آلاینده ها، چرخه تولید برگشت پذیر و کاهش اثرات گلخانه ای یکی از گزینه های بسیار قدرتمند برای تامین انرژی در آیندهای نزدیک است. در این پژوهش از روشی پر بازده برای تولید لایه های های نازک هماتیت که به دلیل ارزان بودن، غیر سمی بودن، پایداری در محلول های شیمیایی و شکاف باند مناسب به عنوان فتوآندهایی با بازده بالا برای تولید هیدروژن با استفاده از تجزیه فوتوالکتروشیمیایی آب نقش آفرینی می کنند، استفاده شده است. مشخصه یابی لایه های نازک هماتیت با استفاده از روش های UV-Vis، XRD و تست تخصصی فوتوالکتروشیمایی (PEC) انجام شد. نتایج نشان داد روش رسوب بخار شیمیایی یک روش کارآمد برای ساخت فوتوآند لایه نازک هماتیت با بازده بالا برای تجزیه فوتوالکتروشیمیایی آب می باشد.

کلیدواژه ها:

لایه نازک ، هماتیت ، رسوب بخار شیمیایی ، فوتوالکتروشیمیایی