CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)
عنوان
مقاله

لیتوگرافی پروبی روبشی شیمیایی مکانیکی (MC-SPL) در ابعاد نانومتری بر روی لایه ماسک فوتورزیست

اعتبار موردنیاز: ۱ | تعداد صفحات: ۵ | تعداد نمایش خلاصه: ۱۶۰۱ | نظرات: ۰
سرفصل ارائه مقاله: نانولوله ، سیم ، لایه نازک
سال انتشار: ۱۳۸۶
نوع ارائه: شفاهی
کد COI مقاله: NANOSC02_267
زبان مقاله: فارسی
حجم فایل: ۱۷۴.۳۷ کلیوبایت (فایل این مقاله در ۵ صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد)

راهنمای دانلود فایل کامل این مقاله

اگر در مجموعه سیویلیکا عضو نیستید، به راحتی می توانید از طریق فرم روبرو اصل این مقاله را خریداری نمایید.
با عضویت در سیویلیکا می توانید اصل مقالات را با حداقل ۳۳ درصد تخفیف (دو سوم قیمت خرید تک مقاله) دریافت نمایید. برای عضویت در سیویلیکا به صفحه ثبت نام مراجعه نمایید. در صورتی که دارای نام کاربری در مجموعه سیویلیکا هستید، ابتدا از قسمت بالای صفحه با نام کاربری خود وارد شده و سپس به این صفحه مراجعه نمایید.
لطفا قبل از اقدام به خرید اینترنتی این مقاله، ابتدا تعداد صفحات مقاله را در بالای این صفحه کنترل نمایید. در پایگاه سیویلیکا عموما مقالات زیر ۵ صفحه فولتکست محسوب نمی شوند و برای خرید اینترنتی عرضه نمی شوند.
برای راهنمایی کاملتر راهنمای سایت را مطالعه کنید.

خرید و دانلود PDF مقاله

با استفاده از پرداخت اینترنتی بسیار سریع و ساده می توانید اصل این مقاله را که دارای ۵ صفحه است در اختیار داشته باشید.

قیمت این مقاله : ۳۰,۰۰۰ ریال

آدرس ایمیل خود را در زیر وارد نموده و کلید خرید با پرداخت اینترنتی را بزنید. آدرس ایمیل:

رفتن به مرحله بعد:

در صورت بروز هر گونه مشکل در روند خرید اینترنتی، بخش پشتیبانی کاربران آماده پاسخگویی به مشکلات و سوالات شما می باشد.

مشخصات نویسندگان مقاله لیتوگرافی پروبی روبشی شیمیایی مکانیکی (MC-SPL) در ابعاد نانومتری بر روی لایه ماسک فوتورزیست

  محمد عبدالاحد - دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف
  امید اخوان - دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف
  علیرضا مشفق - دانشکده فیزیک دانشگاه صنعتی شریف

چکیده مقاله:

در این تحقیق ابتدا نانو لیتگرافی برروی لایه ماسک فوتورزیست که روی بستر LiTaO3 لایه نشانی شده با ایجاد حفره هایی با پارامترهای مختلف بررسی مینماییم . سپس روش لیتوگرافی پروبی روبشی مکانیکی شیمیایی (mechano- chemical scanning probe lithography) بررسی AFM الگوهای پیچیده تری بوسیله لیتوگرافی نیروی مستقیم Al/SiO2/Si میشود که در آن بر روی لایه ماسک لایه نشانی شده بر روی چند لایه ایجاد میشود . سپس ویفر را بوسیله محلول اسید فسفریک اچ میگردد و نانو ساختارهای آلومنیوم ایجاد میگردد . این تشکیل نانو ساختارها گام مهمی به
سمت یاخت قطعات نانومتری است .

کلیدواژه‌ها:

کد مقاله/لینک ثابت به این مقاله

برای لینک دهی به این مقاله، می توانید از لینک زیر استفاده نمایید. این لینک همیشه ثابت است و به عنوان سند ثبت مقاله در مرجع سیویلیکا مورد استفاده قرار میگیرد:
https://www.civilica.com/Paper-NANOSC02-NANOSC02_267.html
کد COI مقاله: NANOSC02_267

نحوه استناد به مقاله:

در صورتی که می خواهید در اثر پژوهشی خود به این مقاله ارجاع دهید، به سادگی می توانید از عبارت زیر در بخش منابع و مراجع استفاده نمایید:
عبدالاحد, محمد؛ امید اخوان و علیرضا مشفق، ۱۳۸۶، لیتوگرافی پروبی روبشی شیمیایی مکانیکی (MC-SPL) در ابعاد نانومتری بر روی لایه ماسک فوتورزیست، دومین همایش دانشجویی فناوری نانو، دانشگاه کاشان، پژوهشکده علوم و فناوری نانو، https://www.civilica.com/Paper-NANOSC02-NANOSC02_267.html

در داخل متن نیز هر جا که به عبارت و یا دستاوردی از این مقاله اشاره شود پس از ذکر مطلب، در داخل پارانتز، مشخصات زیر نوشته می شود.
برای بار اول: (عبدالاحد, محمد؛ امید اخوان و علیرضا مشفق، ۱۳۸۶)
برای بار دوم به بعد: (عبدالاحد؛ اخوان و مشفق، ۱۳۸۶)
برای آشنایی کامل با نحوه مرجع نویسی لطفا بخش راهنمای سیویلیکا (مرجع دهی) را ملاحظه نمایید.

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :

  • S.Zankovych, T.Haffmann , J.Seekamp , J-U Bruch and C M ...
  • H.Schiff , J.Gobrecht , C.Padesta , L .J.Heyderman , Mic ...
  • G.Y. Liu, S. Xu, Y.L. Qian, Acc. Chem. Res. 33 ...
  • H.D. Fonseca Filho, M.H.P. Maur! cio, C.R. Ponciano, R. Prioli, ...
  • علم سنجی و رتبه بندی مقاله

    مشخصات مرکز تولید کننده این مقاله به صورت زیر است:
    نوع مرکز:
    تعداد مقالات: ۱۸۲۵۲
    در بخش علم سنجی پایگاه سیویلیکا می توانید رتبه بندی علمی مراکز دانشگاهی و پژوهشی کشور را بر اساس آمار مقالات نمایه شده مشاهده نمایید.

    مدیریت اطلاعات پژوهشی

    اطلاعات استنادی این مقاله را به نرم افزارهای مدیریت اطلاعات علمی و استنادی ارسال نمایید و در تحقیقات خود از آن استفاده نمایید.

    مقالات پیشنهادی مرتبط

    شبکه تبلیغات علمی کشور

    به اشتراک گذاری این صفحه

    اطلاعات بیشتر درباره COI

    COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
    کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.