معرفی رزوناتورها وارائه روشی به نام افزایش تغلیظ برای کاهش حساسیت MEMS رزوناتورها نسبت به تغییرات دما.
سال انتشار: 1393
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,032
فایل این مقاله در 10 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
NCECN01_284
تاریخ نمایه سازی: 7 بهمن 1393
چکیده مقاله:
امروزه که MEMS رزوناتورها جایگاه وسیعی در وسایل الکتریکی و الکترونیکی باز کرده اند به دلیل ابعاد بسیار کوچک آنها (میکرو متر)و استفاده از سیلیکون تک کیریستالی در ساختار ان ها،این رزوناتورها بسیار به دما حساس می باشند به نحوی که با افزایش دما شکل آنها از حالت استاندارد و طراحی شده خارج می شود،در همین راستا آنان قادر به تولید فرکانسی که برای ان طراحی شده اند،نبوده و شاهد شیفت فرکانسی می باشیم.در این مقاله سعی بر توصیف روشی شده است که با اضافه کردن فسفر بر سطح این رزوناتورها خاصیت فیزیکی سیلیکون تغییر نموده و در برابر افزایش دما مقاومت می نماید. به عبارت دیگر می توان گفت با این روش می توان به رزوناتورهای قابل اعتمادتری در برابر تغییرات دما رسید که در انها شیفت فرکانسی به حداقل رسیده است.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
سید فخرالدین نبوی
دانشجوی کارشناسی ارشد رشته الکترونیک دانشگاه Ozyeginو پژوهشگر موسسه TUBITAK،استانبول،ترکیه.
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :