تاثیر فشار اکسیژن و دما بر خواصاپتیکی و مورفولوژی لایه های نازک اکسید تنگستن به روشلایه نشانی لیزر پالسی
محل انتشار: دومین همایش ملی مهندسی اپتیک و لیزر ایران
سال انتشار: 1390
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 944
فایل این مقاله در 5 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
NCOLE02_021
تاریخ نمایه سازی: 24 اسفند 1389
چکیده مقاله:
در این مقاله، لایههای نازک اکسید تنگستن بر روی شیشه و سیلیکون به روش لیزر پالسی در محیطهای خلا و فشار جزیی اکسیژنmTorr)100 و در دماهای زیرلایه300-25 درجه سانتیگراد لایه نشانی شدهاند. خواص اپتیکی و مورفولوژی نمونه ها با اسپکتروفوتومتر نوری در محدودهnm800-200 و میکروسکوپ نیروی اتمی مطالعه شد. نتایج نشان داد عبور اپتیکی در لایهنشانی در فشار جزیی اکسیژن بیشتر از محیط خلا است در حالیکه نمونههای محیط خلا انعکاس بیشتری دارند. همچنین در محیط خلا سطوح هموارتری به دست میآید. به طور کلی با افزایشدمای زیرلایه یکنواختی لایه و خواصاپتیکی میتوانند بهبود یابند
کلیدواژه ها:
نویسندگان
مهدی رنجبر
اصفهان، دانشگاه صنعتی اصفهان، دانشکده فیزیک،
هادی سلامتی
اصفهان، دانشگاه صنعتی اصفهان، دانشکده فیزیک،
زهرا خواجه میری
اصفهان، دانشگاه صنعتی اصفهان، دانشکده فیزیک،
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :