CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)
عنوان
مقاله

بررسی اندازه دانه ها، ساختار بلوری و تنش لایه های نانو بلوری اکسید روی لایه نشانی شده به روش کند و پاش RF

اعتبار موردنیاز: ۱ | تعداد صفحات: ۴ | تعداد نمایش خلاصه: ۲۴۸۱ | نظرات: ۰
سال انتشار: ۱۳۸۵
نوع ارائه: شفاهی
کد COI مقاله: NCV02_008
زبان مقاله: فارسی
حجم فایل: ۳۶۶.۱۴ کلیوبایت (فایل این مقاله در ۴ صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد)

راهنمای دانلود فایل کامل این مقاله

اگر در مجموعه سیویلیکا عضو نیستید، به راحتی می توانید از طریق فرم روبرو اصل این مقاله را خریداری نمایید.
با عضویت در سیویلیکا می توانید اصل مقالات را با حداقل ۳۳ درصد تخفیف (دو سوم قیمت خرید تک مقاله) دریافت نمایید. برای عضویت در سیویلیکا به صفحه ثبت نام مراجعه نمایید. در صورتی که دارای نام کاربری در مجموعه سیویلیکا هستید، ابتدا از قسمت بالای صفحه با نام کاربری خود وارد شده و سپس به این صفحه مراجعه نمایید.
لطفا قبل از اقدام به خرید اینترنتی این مقاله، ابتدا تعداد صفحات مقاله را در بالای این صفحه کنترل نمایید. در پایگاه سیویلیکا عموما مقالات زیر ۵ صفحه فولتکست محسوب نمی شوند و برای خرید اینترنتی عرضه نمی شوند.
برای راهنمایی کاملتر راهنمای سایت را مطالعه کنید.

خرید و دانلود PDF مقاله

با استفاده از پرداخت اینترنتی بسیار سریع و ساده می توانید اصل این مقاله را که دارای ۴ صفحه است در اختیار داشته باشید.

قیمت این مقاله : ۳۰,۰۰۰ ریال

آدرس ایمیل خود را در زیر وارد نموده و کلید خرید با پرداخت اینترنتی را بزنید. آدرس ایمیل:

رفتن به مرحله بعد:

در صورت بروز هر گونه مشکل در روند خرید اینترنتی، بخش پشتیبانی کاربران آماده پاسخگویی به مشکلات و سوالات شما می باشد.

مشخصات نویسندگان مقاله بررسی اندازه دانه ها، ساختار بلوری و تنش لایه های نانو بلوری اکسید روی لایه نشانی شده به روش کند و پاش RF

بهزاد اسفندیارپور - آزمایشگاه تحقیقاتی لایه های نازک، گروه مهندسی برق وکامپیوتر، دانشک
فاطمه دهقان نیری - آزمایشگاه تحقیقاتی لایه های نازک، گروه مهندسی برق وکامپیوتر، دانشک
سعیده ابراهیمی - آزمایشگاه تحقیقاتی لایه های نازک، گروه مهندسی برق وکامپیوتر، دانشک
ابراهیم اصل سلیمان - آزمایشگاه تحقیقاتی لایه های نازک، گروه مهندسی برق وکامپیوتر، دانشک

چکیده مقاله:

لایههای نازک اکسید روی بر روی زیر لایههای شیشه با روش کند و پاش RF لایه نشانی شده است. لایه نشانی در حضور پلاسمای گاز آرگون با خلوص (99.99%) و بدون گرمادهی زیر لایهها با تغییر توان RF از 50 تا 350 انجام شده است. آنالیز پراش اشعه XRD) x ) برای بررسی ساختار بلوری و آنالیز میکروسکوپ الکترونی( SEM) برای بررسی ساختار سطحی لایههای نانو بلوری اکسید روی مورد استفاده قرار گرفته است. اندازة دانههای لایههای اکسید روی از nm 8 تا nm 20 تغییر میکند. استرس مربوط به زمان لایه نشانی لایههای اکسید روی که با توان 150 وات لایه نشانی شدهاند نزدیک صفر میباشد همچنین اندازة دانههای اکسید روی مربوط به توان 150 وات بیشترین مقدار یعنی حدود 26nm بدست آمده است. طیفXRD وات لایه 100 تا 200 وات لایه نشانی شده اند، تنها پیک ( 002 ) ساختار ورتزایت اکسید روی را نشان میدهد که بیانگر کیفیت بالای بلوری این لایه ها است.

کلیدواژه‌ها:

کد مقاله/لینک ثابت به این مقاله

برای لینک دهی به این مقاله، می توانید از لینک زیر استفاده نمایید. این لینک همیشه ثابت است و به عنوان سند ثبت مقاله در مرجع سیویلیکا مورد استفاده قرار میگیرد:
https://www.civilica.com/Paper-NCV02-NCV02_008.html
کد COI مقاله: NCV02_008

نحوه استناد به مقاله:

در صورتی که می خواهید در اثر پژوهشی خود به این مقاله ارجاع دهید، به سادگی می توانید از عبارت زیر در بخش منابع و مراجع استفاده نمایید:
اسفندیارپور, بهزاد؛ فاطمه دهقان نیری؛ سعیده ابراهیمی و ابراهیم اصل سلیمان، ۱۳۸۵، بررسی اندازه دانه ها، ساختار بلوری و تنش لایه های نانو بلوری اکسید روی لایه نشانی شده به روش کند و پاش RF، دومین کنفرانس ملی خلاء، مشهد، انجمن فیزیک ایران، دانشگاه فردوسی مشهد، https://www.civilica.com/Paper-NCV02-NCV02_008.html

در داخل متن نیز هر جا که به عبارت و یا دستاوردی از این مقاله اشاره شود پس از ذکر مطلب، در داخل پارانتز، مشخصات زیر نوشته می شود.
برای بار اول: (اسفندیارپور, بهزاد؛ فاطمه دهقان نیری؛ سعیده ابراهیمی و ابراهیم اصل سلیمان، ۱۳۸۵)
برای بار دوم به بعد: (اسفندیارپور؛ دهقان نیری؛ ابراهیمی و اصل سلیمان، ۱۳۸۵)
برای آشنایی کامل با نحوه مرجع نویسی لطفا بخش راهنمای سیویلیکا (مرجع دهی) را ملاحظه نمایید.

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :

  • P. H. Holloway, T. A. Trottier, B. Abrams, C. Kondoleon, ...
  • T. Yamamoto, T. Shiosaki, and A. Kawabata, _ C haracteri ...
  • E. M. C. Fortunato, P. M. _ Barquinha, A.C. M. ...
  • H. S. Bae and S.Im, ،ZnO-based thin-film transistors of optimal ...
  • R. L. Hoffman, «ZnO-channel thin-film transistors: Channel mobi lity, Journual ...
  • K. B. Sundaram and A. Khan, ،، C h aracterization ...
  • Jin-Hong Lee, Kyung-Hee Ko and Byung-Ok Park, ، Electrical and ...
  • Y. Natsume and H. Sakata, ،، Zinc oxide films prepared ...
  • Y.M. Lu, W.S. Hwang, W.Y. Liu, and J.S. Yang, «Effect ...
  • مدیریت اطلاعات پژوهشی

    اطلاعات استنادی این مقاله را به نرم افزارهای مدیریت اطلاعات علمی و استنادی ارسال نمایید و در تحقیقات خود از آن استفاده نمایید.

    مقالات پیشنهادی مرتبط

    مقالات مرتبط جدید

    شبکه تبلیغات علمی کشور

    به اشتراک گذاری این صفحه

    اطلاعات بیشتر درباره COI

    COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
    کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.