کریستالهای فوتونیکی یک بعدی فلز- دی الکتریک شفاف

در این گزارش، به دلیل بالاتر بودن خواص اپتیکی غیر خطی فلزات نسبت به مواد دیگر و نیز پائین بودن ضریب عبور لایه های فلزی با ضخامت های بیشتر از عمق نفوذ، رفتار و چگونگی تولید کریستالهای فوتونیکی یک بعدی فلز -دی الکتریک با ضریب عبور بالا، مورد بررسی قرار گرفته است. در این نوع از موادِ ترکیبی با خواص اپتیکی غیر خطی بالا، ضریب عبور از سازه Glass /(Cu −Mgf 2)3 / Air در مقایسه با تک لایه ای از مس با ضخامتی معادل با مجموع لایه های مس در سازه بلورهای فوتونیکی، بیش از 50 % افزایش پیدا می کند که تطابق خوبی با نتایج حاصل از محاسبات تئوری بر اساس روش ماتریس انتقال دارد.