ببررسی حذف آلاینده ۴- نیتروفنل از آبهای آلوده با استفاده فرآینداکسیدسیون پیشرفته 2 UV/H2O
محل انتشار: یازدهمین کنگره ملی مهندسی شیمی ایران
سال انتشار: 1385
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 2,322
فایل این مقاله در 10 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
NICEC11_348
تاریخ نمایه سازی: 4 اردیبهشت 1386
چکیده مقاله:
در این کار پژوهشی تخریب فتواکسیداسیونی ٤- نیتروفنل (4-NP) در حضور H2O2 با استفاده از راکتور ناپیوسته مجهز به لامپW)UV-C 15 ) در طول موج nm 254 بررسی شد. تاثیر پارامترهای عملیاتی از قبیل pH اولیه محلول ، غلظت 2H2O به کار رفته و شدت نور UV مورد مطالعه قرار گرفت . نتایج بررسی ها نشان دادند که افزایش غلظت آلاینده ، سرعت حذف را کاهش می دهد و ثابت سرعت ظاهری واکنش از سینتیک واکنشهای درجه اول پیروی می کند.افزایش آلاینده های شیمیایی از قبیلNa2CO3 , NaHCO3 NaCl در تخریب نوری موجب کاهش سرعت حذف شدند. همچنین افزایش جاروب کننده های الکترون مانند اتانول و ٢- پروپانول رادیکالهای هیدروکسیل را مصرف کرده و باعث کاهش میزان حذف شدند . نتایجHPLC نشان دادکه برخی از حد واسط ها ( ٤- نیترو کاتکول و هیدروکینون ) در طول فر آیند تخریب تشکیل شده و با افزایش مدت زمان تابش از بین می روند. همچنین نتایج نشان دادند که معدنیسازیNP در شرایط مطلوب رخ داده و کاهش COD - تا ٦٠ % درصد، بعد از ١٥٠ دقیقه تابش اتفاق می افتد.
کلیدواژه ها:
فتواکسیداسیون -UV/H2O2 - ٤- نیتروفنل- محصولات حد واسط
نویسندگان
نظام الدین دانشور
استاد تمام وقت گروه شیمی کاربردی ومهندسی شیمی دانشگاه تبریز
محمدعلی بهنژادی
استاد یار تمام وقت گروه شیمی کاربردی دانشگاهو آزاد اسلامی واحد تبریز
یاشار ذریه اصغر
کارشناس ارشد رشته شیمی کاربردی
علی رضا امانی قدیم
کارشناس ارشد رشته شیمی کاربردی
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :