بررسی خاصیت آبگریزی لایه نازک دی اکسیدزیرکونیوم بر روی بستر سیلیکون

سال انتشار: 1397
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 478

فایل این مقاله در 13 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

NRCP04_034

تاریخ نمایه سازی: 23 آذر 1397

چکیده مقاله:

در این مقاله میزان آبگریزی سطح سلیکون پوشش داده شده با دی اکسید زیرکونیوم(( 2 با روش اسپین کوت مورد بررسی قرار گرفته است، محلول آماده شده برای این منظور با روش اسپین کوت1 بر روی بستر سیلیکون تک کریستال در 8 مرحله به صورت لایه نازک نشانده شده و تحت پخت با دماهای 450، 600، 750 و 900 درجه سانتیگراد قرار گرفت.ساختار با استفاده از پراش پرتو (XRD) X مورد بررسی قرار گرفت که در هر دو روش ساختار دی‎اکسید زیرکونیوم شکل گرفته بود.مورفولوژی و سایز دانه های تشکیل شده روی سطح با استفاده از میکروسکوپ نیروی اتمی (AFM) مورد بررسی قرار گرفت و زیری سطح نمونه ها با استفاده از نرم افزار Imager مشخص شد. زاویه تماس نمونه از طریق عکس برداری با میکروسکوپ دیجیتال مدل AM-7013MZT مورد بررسی قرار گرفت. بیشترین زاویه برای لایه تهیه شده به روش لایه نشانی چرخشی 92/6 درجه بدست آمد. طبق نتایج بدست آمده در این پژوهش بهترین دمای بازپخت برای دستیابی به خاصیت آبگریزی برای لایه نازک دی‎اکسید زیرکونیوم دمای 450درجه سانتیگراد بود.

کلیدواژه ها:

آبگریزی ، دی اکسید زیرکونیوم zrO2 ، اسپین کوت ، لایه نازک ، زاویه تماس

نویسندگان

سوسن وجدانی درستکار

دانشجوی کارشناسی ارشد دانشگاه فردوسی مشهد، دانشکده علوم، گروه فیزیک، آزمایشگاه لایه نازک

محمود رضایی رکن آباد

استاد دانشگاه فردوسی مشهد، دانشکده علوم، گروه فیزیک، آزمایشگاه لایه نازک

محمد بهدانی

دانشیار دانشگاه فردوسی مشهد، دانشکده علوم، گروه فیزیک