اثر دمای زیر لایه بر ساختار و عبور اپتیکی لایه های ZnO
محل انتشار: سومین کنفرانس مهندسی فوتونیک ایران
سال انتشار: 1389
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 990
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
PHOTONICS03_029
تاریخ نمایه سازی: 30 آبان 1389
چکیده مقاله:
لایه های ZnO به روش افشانه داغ برروی زیرلایه شیشه در دماهای 450 و 500 درجه سانتی گراد رشد داده شد. اثر دمای زیرلایه برمشخصات ساختاری و اپتیکی لایه های ZnO بررسی گردید. الگوی پراش اشعه X نشان میدهد که لایه های تهیه شده در دماهای 450 و 500 درجه چند بلوری با ساختار هگزاگونال هستند و رشد ترجیحی لایه ها در راستای 002 است بلورینگی و اندازه دانه با افزایش دمای زیرلایه افزایش می یابد. طیف عبور اپتیکی لایه ها نشان میدهد که بیشینه عبور برای لایه های تشکیل شده در دماهای 450 و 500 درجه به ترتیب 70% و 80% می رسد طیف عبور افزایش عبور اپتیکی با افزایش دمای زیرلایه را نشان میدهد.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
فهیمه زاهدی
گروه فیزیک دانشگاه الزهرا(س)،تهران
رضا ثابت دریانی
گروه فیزیک دانشگاه الزهرا (س)،تهران