اثر دمای زیر لایه بر ساختار و عبور اپتیکی لایه های ZnO

لایه های ZnO به روش افشانه داغ برروی زیرلایه شیشه در دماهای 450 و 500 درجه سانتی گراد رشد داده شد. اثر دمای زیرلایه برمشخصات ساختاری و اپتیکی لایه های ZnO بررسی گردید. الگوی پراش اشعه X نشان میدهد که لایه های تهیه شده در دماهای 450 و 500 درجه چند بلوری با ساختار هگزاگونال هستند و رشد ترجیحی لایه ها در راستای 002 است بلورینگی و اندازه دانه با افزایش دمای زیرلایه افزایش می یابد. طیف عبور اپتیکی لایه ها نشان میدهد که بیشینه عبور برای لایه های تشکیل شده در دماهای 450 و 500 درجه به ترتیب 70% و 80% می رسد طیف عبور افزایش عبور اپتیکی با افزایش دمای زیرلایه را نشان میدهد.

کلیدواژه ها:

افشانه داغ ، پراش اشعه X ، عبور اپتیکی ، لایه اکسید روی