مطالعه میکرو ساختار لایه های نازک TiO2 انباشت شده به روش تبخیر پرتو الکترونی
محل انتشار: سومین کنفرانس مهندسی فوتونیک ایران
سال انتشار: 1389
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,059
متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
PHOTONICS03_090
تاریخ نمایه سازی: 30 آبان 1389
چکیده مقاله:
با توجه به کاربردهای گسترده لایه های نازک TiO2 بهینه سازی پارامترهای لایه نشانی برای بهبود کیفی لایه های بدست آمده بسیار مهم می باشد دراین مقاله تاثیر ضخامت لایه نازک برویژگیهای فیزیکی و ساختاری لایه های نازک دی اکسید تیتانیم TiO2 انباشت شده توسط روش تبخیر پرتوالکترونی را مورد بررسی قرار داده ایم مورفولوژی سطح لایه های نازک توسط میکروسکوپ نیروی اتمی بدست امد نتایج نشان میدهد که اندازه دانه با افزایش ضخامت افزایش می یابد و مورفولوژی رشدی برای لایه های تولید شده در شرایط یکسان متفاوت است.
کلیدواژه ها:
نویسندگان
زهرا شفیعی زاده
مرکز ملی علوم و فنون لیزر ایران ،تهران
جهانبخش مشایخی اصل
مرکز ملی علوم و فنون لیزر ایران ،تهران
حسن حیدری
مرکز ملی علوم و فنون لیزر ایران ،تهران
جمشید صباغ زاده
مرکز ملی علوم و فنون لیزر ایران ،تهران
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :