CIVILICA We Respect the Science
(ناشر تخصصی کنفرانسهای کشور / شماره مجوز انتشارات از وزارت فرهنگ و ارشاد اسلامی: ۸۹۷۱)
عنوان
مقاله

مدل سازی جذب گازهای نیتروژن و متان برروی جاذب های با ساختار نانوحفره در فشارهای بالا

اعتبار موردنیاز: ۱ | تعداد صفحات: ۱۱ | تعداد نمایش خلاصه: ۷۵۹ | نظرات: ۰
سال انتشار: ۱۳۹۲
کد COI مقاله: PROCESS01_035
زبان مقاله: فارسی
حجم فایل: ۴۲۲.۵۹ کلیوبایت (فایل این مقاله در ۱۱ صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد)

راهنمای دانلود فایل کامل این مقاله

اگر در مجموعه سیویلیکا عضو نیستید، به راحتی می توانید از طریق فرم روبرو اصل این مقاله را خریداری نمایید.
با عضویت در سیویلیکا می توانید اصل مقالات را با حداقل ۳۳ درصد تخفیف (دو سوم قیمت خرید تک مقاله) دریافت نمایید. برای عضویت در سیویلیکا به صفحه ثبت نام مراجعه نمایید. در صورتی که دارای نام کاربری در مجموعه سیویلیکا هستید، ابتدا از قسمت بالای صفحه با نام کاربری خود وارد شده و سپس به این صفحه مراجعه نمایید.
لطفا قبل از اقدام به خرید اینترنتی این مقاله، ابتدا تعداد صفحات مقاله را در بالای این صفحه کنترل نمایید. در پایگاه سیویلیکا عموما مقالات زیر ۵ صفحه فولتکست محسوب نمی شوند و برای خرید اینترنتی عرضه نمی شوند.
برای راهنمایی کاملتر راهنمای سایت را مطالعه کنید.

خرید و دانلود PDF مقاله

با استفاده از پرداخت اینترنتی بسیار سریع و ساده می توانید اصل این مقاله را که دارای ۱۱ صفحه است در اختیار داشته باشید.

قیمت این مقاله : ۳۰,۰۰۰ ریال

آدرس ایمیل خود را در زیر وارد نموده و کلید خرید با پرداخت اینترنتی را بزنید. آدرس ایمیل:

رفتن به مرحله بعد:

در صورت بروز هر گونه مشکل در روند خرید اینترنتی، بخش پشتیبانی کاربران آماده پاسخگویی به مشکلات و سوالات شما می باشد.

مشخصات نویسندگان مقاله مدل سازی جذب گازهای نیتروژن و متان برروی جاذب های با ساختار نانوحفره در فشارهای بالا

  سعیده شاه میرزرندی - کرمان، دانشگاه شهید باهنر، دانشکده فنی، بخش مهندسی شیمی، ص پ133-76175
  ستار قادر - استادیار دانشگاه شهید باهنر کرمان، بخش مهندسی شیمی
  حسن هاشمیپوررفسنجانی - دانشیار دانشگاه شهید باهنر کرمان، بخش مهندسی شیمی

چکیده مقاله:

مدل های جذب، ابزار بسیار مهمی در طراحی وشبیه سازی فرایند جذب هستند. تئوری های متعددی برای توصیف داده های تجربی جذب گازهای خالص بر روی جاذب های مختلف وجود دارند. با توجه به روند افزایشی استفاده از ساختارهای نانو در صنعت وجود مدل هایی که جذب گازها را برروی نانو جاذب ها پیش بینی می کنند،بیش از پیش ضرورت می یابد. در این مقاله با تصحیح معادلات حالت واندروالس وپنگ- رابینسون با استفاده از انرژی آزاد هلمهولتز وپتانسیل لنارد- جونز برای رسیدن به معادلات حالتیکه سیال را در فضای نانو حفره توصیف می کنند،دو مدل برای پیش بینی جذب گاز خالص در فشارهای بالا برروی جاذب های کربنی با ساختار نانو حفره ارائه گردید. ساختار نانو حفره بصورت استوانه ای درنظرگرفته شده است. نتایج حاصل از این مدل ها در فشارهای 1 تا 11 مگاپاسکال با داده های تجربی معتبر، اعتبار سنجی شده و با یکدیگر مقایسه شد. بر اساس پیش بینی های انجام شده مدلی که بر اساس معادله حالت پنگ- رابینسون شکل گرفته است، نتایج بهترو دقیق تری نسبت به مدلی که اساس آن معادله حالت واندروالس است، ارائه می دهد. همچنین با افزایش قطر حفره در چند مرحله در هردو مدل،تأثیر تغییر قطر حفره برروی مقدار جذب مورد بررسی قرار گرفت.

کلیدواژه‌ها:

جذب درفشار بالا، معادله حالت واندروالس، معادله حالت پنگ- رابینسون، نانو حفره

کد مقاله/لینک ثابت به این مقاله

برای لینک دهی به این مقاله، می توانید از لینک زیر استفاده نمایید. این لینک همیشه ثابت است و به عنوان سند ثبت مقاله در مرجع سیویلیکا مورد استفاده قرار میگیرد:
https://www.civilica.com/Paper-PROCESS01-PROCESS01_035.html
کد COI مقاله: PROCESS01_035

نحوه استناد به مقاله:

در صورتی که می خواهید در اثر پژوهشی خود به این مقاله ارجاع دهید، به سادگی می توانید از عبارت زیر در بخش منابع و مراجع استفاده نمایید:
شاه میرزرندی, سعیده؛ ستار قادر و حسن هاشمیپوررفسنجانی، ۱۳۹۲، مدل سازی جذب گازهای نیتروژن و متان برروی جاذب های با ساختار نانوحفره در فشارهای بالا، نخستین همایش مهندسی فرآیند در صنایع نفت، گاز، پتروشیمی و انرژی، تهران، هم اندیشان انرژی کیمیا، https://www.civilica.com/Paper-PROCESS01-PROCESS01_035.html

در داخل متن نیز هر جا که به عبارت و یا دستاوردی از این مقاله اشاره شود پس از ذکر مطلب، در داخل پارانتز، مشخصات زیر نوشته می شود.
برای بار اول: (شاه میرزرندی, سعیده؛ ستار قادر و حسن هاشمیپوررفسنجانی، ۱۳۹۲)
برای بار دوم به بعد: (شاه میرزرندی؛ قادر و هاشمیپوررفسنجانی، ۱۳۹۲)
برای آشنایی کامل با نحوه مرجع نویسی لطفا بخش راهنمای سیویلیکا (مرجع دهی) را ملاحظه نمایید.

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :

  • [انیک نام شاهرک، مهدی، شاهسوند، اکبر، خفیظی، علی، احمدپور، علی، ...
  • Fitzgerald, J.E, Sudibandariyo, M, Pan, Z, Robinson, R.L, Gasem, K.A.M ...
  • Travalloni, L, Castier, M, Tavares, F.W, Sandler, S.I, (2010), _ ...
  • Vakili- Nezhaad, G.R, (2007), ":A van der waals type equation ...
  • Subramanian, R, Pyada, H, Lira, CT, (1995), _ engineering model ...
  • Chen, J.H, Wong, D.S.H, Tan, C.S, Subramanian, R, Lira, C.T, ...
  • Mohammad, S.A, Arumugan, A, Robinson, R.L, Jr. _ Gasem, K.A.M ...
  • Cengel, Y.A, Boles, M.A, _ 0Thermo dynamic an engineering approach" ...
  • Zarrago icoechea, G.J, Kuz, V.A, (2002), :Van der waas equation ...
  • Mohammad, S.A, Sadibandriyo, M, Fitzgerald, J.E, Liang, X, Robinson, R.L, ...
  • علم سنجی و رتبه بندی مقاله

    مشخصات مرکز تولید کننده این مقاله به صورت زیر است:
    نوع مرکز:
    تعداد مقالات: ۲۰۵۵۹
    در بخش علم سنجی پایگاه سیویلیکا می توانید رتبه بندی علمی مراکز دانشگاهی و پژوهشی کشور را بر اساس آمار مقالات نمایه شده مشاهده نمایید.

    مدیریت اطلاعات پژوهشی

    اطلاعات استنادی این مقاله را به نرم افزارهای مدیریت اطلاعات علمی و استنادی ارسال نمایید و در تحقیقات خود از آن استفاده نمایید.

    مقالات پیشنهادی مرتبط

    مقالات مرتبط جدید

    شبکه تبلیغات علمی کشور

    به اشتراک گذاری این صفحه

    اطلاعات بیشتر درباره COI

    COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
    کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.