رفتار خوردگی لایه نازک آلیاژ حافظه دار NiTi در محلول رینگر

آلیاژ حافظه دار NiTi دارای خصوصیات منحصر به فردی نسبت به آلیاژهای دیگر چون حافظه داری و سوپرالاستیسیته می باشد که باعث کاربرد زیاد این آلیاژ در علم مهندسی پزشکی برای تولید ابزارها، استنتها، کاشتنی ها و سیمهای ارتودنسی و ک اربرد ویژه آنها در سیستمهای میکرو الکترومکانیکی در کاربردهای بیولوژیکی (BioMEMS) می باشد.هدف از انجام این تحقیق به دست آوردن رفتار خوردگی آلیاژ حافظه دا ر نایتینول که به صورت لایه نازک تهیه شده است، می باشد . برای این منظور به روش پلاریزاسیون پتانسیودینامیکی سیکلی و طیف نگاری امپدانس الکتروشیمیایی در محلول محلول رینگر به عنوان یک محلول شبیه سازی شده بدن تستهای الکتروشیمیایی انجام شد . نتایج آزمایش ها نشان می دهد که نمونه های لایه نازک با گذشت زمان با تشکیل فیلم اکسیدی تا چندین برابر نرخ خوردگی را کاهش می دهند . همچنین خوردگی حفره دار شدن تا پتانسیلهای بالا نیز مشاهده نشد که نشانگر مقاومت بالای آن نسبت به خوردگی موضعی می باشد.

کلیدواژه ها:

نایتینول ، پلاریزاسیو ن سیکلی ، خوردگی ، محلول شبیه سازی شده بدن ، فیلم اکسیدی ، طیف نگاری امپدانس الکتروشیمیایی