تاثیر پخت بر ساختار بلوری لایه های نازک اکسید ایندیم آلاییده به قلع (ITO) تهیه شده به روش کندوپاش
محل انتشار: چهاردهمین همایش بلور شناسی و کانی شناسی ایران
سال انتشار: 1385
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 1,434
فایل این مقاله در 6 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد
- صدور گواهی نمایه سازی
- من نویسنده این مقاله هستم
استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:
شناسه ملی سند علمی:
SCMI14_044
تاریخ نمایه سازی: 29 تیر 1386
چکیده مقاله:
لایه های نازک اکسید ایندیم آلاییده به قلع (ITO) بر روی زیر لایه های شیشه ای به شیوه کندوپاش RF و با استفاده از هدف سرامیکی (In2O3-SnO2, 90-10wt.%) ITO لایه نشانی شده، سپس عملیات پخت بعد از انجام لایه نشانی، در محیط خلا در دماهای مختلف انجام گرفته است. تغییر ساختاری بلوری این لایه ها در دماهای مختلف و تاثیر آن بر خواص الکتریکی و اپتیکی این لایه ها مورد بررسی قرار گرفته است. ساختار کریستالی، مشخصه های الکتریکی و اپتیکی این لایه های نازک به ترتیب توسط انالیزهای XRD مقاومت چهارپروبی و طیف سنجی UV/VIS/IR بررسی شده است. نتایج نشان می دهد که با افزایش دمای پخت در خلاء ساختار کریستالی لایه ها تغییر کرده و به دنبال آن مقاومت الکتریکی و شفافیت لایه بهبود می یابد.
نویسندگان
نگین معنوی زاده
گروه فیزیک، دانشکده علوم، دانشگاه صنعتی خواجه نصیرالدین طوسی
محمدهادی ملکی
پژوهشکده لیزر و اپتیک، سازمان انرژی اتمی ایران
مراجع و منابع این مقاله:
لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :