تاثیر خلوص SnCl2.2H2O در لایه های نازک 2SnO تهیه شده به روش افشانه پایرولیزز

سال انتشار: 1387
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 641

متن کامل این مقاله منتشر نشده است و فقط به صورت چکیده یا چکیده مبسوط در پایگاه موجود می باشد.
توضیح: معمولا کلیه مقالاتی که کمتر از ۵ صفحه باشند در پایگاه سیویلیکا اصل مقاله (فول تکست) محسوب نمی شوند و فقط کاربران عضو بدون کسر اعتبار می توانند فایل آنها را دریافت نمایند.

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

SCMI16_233

تاریخ نمایه سازی: 8 بهمن 1391

چکیده مقاله:

در این مطالعه، ما ویژگی های ساختاری فیلم های نازک 2SnO را با تاکید بر انتخاب نوع ماده مورد بررسی قرار دادیم.شرایط تهیه فیلم ها بجز ناخالصی ماده برای تمام نمونه ها یکسان بود. نتایج XRD نشان می دهد که فیلم ها با درصد خلوص متفاوت دارای جهت های متفاوتی هستند. که جهت های غالب آنها عبارتند از: ( 101 ، 211 و 200 ) تغییر در دمای زیرلایه برای یک خلوص خاص نیز بررسی می شود که کمترین مقاومت و بیشترین شفافیت در دمای C 450 به ترتیب 77 اهم بر سانتی متر مربع 74 % است.

نویسندگان

الهام شادمانی

دانشکده علوم پایه، دانشگاه گیلان

سید محمد روضاتی

دانشکده علوم پایه، دانشگاه گیلان