CIVILICA We Respect the Science
ناشر تخصصی کنفرانسهای ایران
عنوان
مقاله

فرمول بندی معادلات در واکنش های انجام شده در راکتور PECVD جهت تولید نانو ذرات و رسوب گذاری لایه های نازک سیلیکون آمورف

اعتبار موردنیاز : ۱ | تعداد صفحات: ۷ | تعداد نمایش خلاصه: ۴۳۷ | نظرات: ۰
سال انتشار: ۱۳۹۰
کد COI مقاله: THINFILM01_038
زبان مقاله: فارسی
حجم فایل: ۴۱۴.۲۱ کیلوبایت (فایل این مقاله در ۷ صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد)

راهنمای دانلود فایل کامل این مقاله

اگر در مجموعه سیویلیکا عضو نیستید، به راحتی می توانید از طریق فرم روبرو اصل این مقاله را خریداری نمایید.
با عضویت در سیویلیکا می توانید اصل مقالات را با حداقل ۳۳ درصد تخفیف (دو سوم قیمت خرید تک مقاله) دریافت نمایید. برای عضویت در سیویلیکا به صفحه ثبت نام مراجعه نمایید. در صورتی که دارای نام کاربری در مجموعه سیویلیکا هستید، ابتدا از قسمت بالای صفحه با نام کاربری خود وارد شده و سپس به این صفحه مراجعه نمایید.
لطفا قبل از اقدام به خرید اینترنتی این مقاله، ابتدا تعداد صفحات مقاله را در بالای این صفحه کنترل نمایید.
برای راهنمایی کاملتر راهنمای سایت را مطالعه کنید.

خرید و دانلود فایل مقاله

با استفاده از پرداخت اینترنتی بسیار سریع و ساده می توانید اصل این مقاله را که دارای ۷ صفحه است در اختیار داشته باشید.

قیمت این مقاله : ۳,۰۰۰ تومان

آدرس ایمیل خود را در کادر زیر وارد نمایید:

مشخصات نویسندگان مقاله فرمول بندی معادلات در واکنش های انجام شده در راکتور PECVD جهت تولید نانو ذرات و رسوب گذاری لایه های نازک سیلیکون آمورف

  زهرا دهقانی فرد - دانشگاه تحصیلات تکمیلی کرمان
علیرضا اشرف گنجویی - مرکز بین المللی علوم و تکنولوژی پیشرفته و علوم محیطی
  محمد آقا بلوریزاده - دانشگاه تحصیلات تکمیلی کرمان
  علیرضا احمدی - دانشگاه تحصیلات تکمیلی کرمان

چکیده مقاله:

در این مقاله، یک مدل شاره ای دو بعدی برای شبیه سازی تخلیه الکتریکی با فرکانس رادیویی (rf ) در یک راکتور PECVD به کار گرفته شده است. این نوع مدل سازی قادر است فرایند شکل گیری ذرات با ابعاد نانو را در محیط تخلیه الکتریکی راکتور تا رسوب سیلیکون آمورف بر روی یک زیر لایه و تشکیل لایه های نازک را توصیف نماید. در این کار، همچنین مهم ترین فرآیندهای معرفی شده شیمیایی در محیط پلاسما در نظر گرفته شده است. یعنی گونه های مختلف باردار و رادیکال ها، واکنش های گوناگون الکترون با ذرات خنثی و سایر واکنش های شیمیایی مد نظر است. در طول تخلیه الکتریکی رادیکال هایی تولید می شود که ابعاد نانو دارند. این رادیکال ها همان نانو ذرات هستند که روی زیرلایه ها رسوب می کنند و لایه های نازک تولید می شود. در واقع در این مقاله ما، واکنش های شیمیایی انجام شده در راکتور را بررسی کرده و معادلات حاکم بر ذرات و محیط راکتور را جمع آوری کرده ایم. این معادلات شامل معادلاتعادل چگالی و شار برای گونه های مختلف، معادله ی پواسون برای پتانسیل و معادله ی انرژی الکترون می باشد.

کلیدواژه‌ها:

پلاسمای تخلیه الکتریکی با فرکانس رادیویی، راکتور PECVD، لایه های نازک سیلیکون آمورف

کد مقاله/لینک ثابت به این مقاله

برای لینک دهی به این مقاله، می توانید از لینک زیر استفاده نمایید. این لینک همیشه ثابت است و به عنوان سند ثبت مقاله در مرجع سیویلیکا مورد استفاده قرار میگیرد:
https://www.civilica.com/Paper-THINFILM01-THINFILM01_038.html
کد COI مقاله: THINFILM01_038

نحوه استناد به مقاله:

در صورتی که می خواهید در اثر پژوهشی خود به این مقاله ارجاع دهید، به سادگی می توانید از عبارت زیر در بخش منابع و مراجع استفاده نمایید:
دهقانی فرد, زهرا؛ علیرضا اشرف گنجویی؛ محمد آقا بلوریزاده و علیرضا احمدی، ۱۳۹۰، فرمول بندی معادلات در واکنش های انجام شده در راکتور PECVD جهت تولید نانو ذرات و رسوب گذاری لایه های نازک سیلیکون آمورف، اولین کنفرانس ملی نوآوری ها در پردازش لایه های نازک و مشخصه های آنها، کرمان، مرکز بین المللی علوم و تکنولوژی پیشرفته و علوم محیطی، https://www.civilica.com/Paper-THINFILM01-THINFILM01_038.html

در داخل متن نیز هر جا که به عبارت و یا دستاوردی از این مقاله اشاره شود پس از ذکر مطلب، در داخل پارانتز، مشخصات زیر نوشته می شود.
برای بار اول: (دهقانی فرد, زهرا؛ علیرضا اشرف گنجویی؛ محمد آقا بلوریزاده و علیرضا احمدی، ۱۳۹۰)
برای بار دوم به بعد: (دهقانی فرد؛ اشرف گنجویی؛ آقا بلوریزاده و احمدی، ۱۳۹۰)
برای آشنایی کامل با نحوه مرجع نویسی لطفا بخش راهنمای سیویلیکا (مرجع دهی) را ملاحظه نمایید.

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :

  • G. J. Nienhuisa and W. J. Goedheer, _ A self-consistent ...
  • and N;", IOP Publishing Ltd, 2003. ...
  • K. De Bleecker1, A. Bogaerts1, W.J. Goedheer2, R. Gijbels1, _ ...
  • Ch. Hollenstein, J-L Dorier, J Dutta, L Sansonnens and A. ...
  • V.V. Krzh izhanovskaya, M. A. Zatevakhin, A. A. Ignatiev, Y. ...
  • P. Dvorak, P. Vasina, V. Bursnkova and R. Z. emlicka, ...
  • H. Huanga, K. J. Winchester b, A. Suvorova c, B. ...
  • علم سنجی و رتبه بندی مقاله

    مشخصات مرکز تولید کننده این مقاله به صورت زیر است:
    نوع مرکز: دانشگاه دولتی
    تعداد مقالات: ۱۸۶۱
    در بخش علم سنجی پایگاه سیویلیکا می توانید رتبه بندی علمی مراکز دانشگاهی و پژوهشی کشور را بر اساس آمار مقالات نمایه شده مشاهده نمایید.

    مدیریت اطلاعات پژوهشی

    اطلاعات استنادی این مقاله را به نرم افزارهای مدیریت اطلاعات علمی و استنادی ارسال نمایید و در تحقیقات خود از آن استفاده نمایید.

    مقالات پیشنهادی مرتبط

    مقالات مرتبط جدید


    مقالات فوق اخیرا در حوزه مرتبط با این مقاله به سیویلیکا افزوده شده اند.

    شبکه تبلیغات علمی کشور

    به اشتراک گذاری این صفحه

    اطلاعات بیشتر درباره COI

    COI مخفف عبارت CIVILICA Object Identifier به معنی شناسه سیویلیکا برای اسناد است. COI کدی است که مطابق محل انتشار، به مقالات کنفرانسها و ژورنالهای داخل کشور به هنگام نمایه سازی بر روی پایگاه استنادی سیویلیکا اختصاص می یابد.
    کد COI به مفهوم کد ملی اسناد نمایه شده در سیویلیکا است و کدی یکتا و ثابت است و به همین دلیل همواره قابلیت استناد و پیگیری دارد.