مطالعه خواص مکانیکی و الکتریکی لایه های نازک نیترید تیتانیوم تهیه شده به روش کندوپاش برحسب تابعی از فشار گاز آرگون

سال انتشار: 1392
نوع سند: مقاله کنفرانسی
زبان: فارسی
مشاهده: 865

فایل این مقاله در 10 صفحه با فرمت PDF قابل دریافت می باشد

استخراج به نرم افزارهای پژوهشی:

لینک ثابت به این مقاله:

شناسه ملی سند علمی:

TIAU01_258

تاریخ نمایه سازی: 14 شهریور 1393

چکیده مقاله:

وابستگی خواصالکتریکی و مکانیکی لایههای نازک نیترید تیتانیوم انباشت شده بر روی زیرلایههای سیلیکون بهروش کندوپاش مغناطیسیDCبه شار گاز آرگون بررسی شد. ساختار بلوری و ریخت شناسی لایهها به ترتیب به وسیله پراش پرتو(XRD) x-و میکروسکوپ نیروی اتمیAFM بررسی شد. خواص مکانیکی و الکتریکی لایهها نیز بوسیله آزمون سختی سنجیNano-indentationو دستگاه جستجوگر چهار نقطه ایfour point probeتحقیق شد. الگوهای پراش پرتوx-شکل گیری نیترید تیتانیوم با ساختارFCCرا برای همه نمونهها نشان داد. همچنین نتایج نشان داد جهت بلورنگاری ( 111 ) می تواند به عنوان جهت ترجیحی برای لایههای نازک تیتانیوم نیترید باشد تصاویر میکروسکوپ نیروی اتمیAFM یک ساختار ستونی یا سوزنی شکل را برای لایههای نازک تیتانیومنیترید نشان داد. نتایج همچنین نشان داد افزایش شار گاز آرگون سبب افزایش سختی، اندازه دانه ها، زمختی سطح و سبب کاهش ضریب کشسانی و چگالی جا بجاییdislocation densityدر لایهها میشود. بررسیهای الکتریکی نشان داد وابستگی ولتاژ با جریان را در همه نمونهها به صورت خطی است و نیز نشان داد مقاومت ویژه الکتریکی لایهها با افزایش جریان گاز آرگون افزایش پیدا میکند

نویسندگان

ابراهیم شکرایی

فیزیک حالت جامد، دانشجوی کارشناسی ارشد

زهره دهقانی

فیزیک حالت جامد، دانشجوی کارشناسی ارشد

کیخسرو خجیر

فیزیک تخصصی، دکتری، عضو هیت علمی دانشگاه آزاد اسلامی واحد چالوس

ناصر زارع دهنوی

فیزیک ماده چگال، دکتری، عضو هیت علمی دانشگاه آزاد اسلامی واحد تهران مرکز

مراجع و منابع این مقاله:

لیست زیر مراجع و منابع استفاده شده در این مقاله را نمایش می دهد. این مراجع به صورت کاملا ماشینی و بر اساس هوش مصنوعی استخراج شده اند و لذا ممکن است دارای اشکالاتی باشند که به مرور زمان دقت استخراج این محتوا افزایش می یابد. مراجعی که مقالات مربوط به آنها در سیویلیکا نمایه شده و پیدا شده اند، به خود مقاله لینک شده اند :
  • M. Wittmer, B. Studer, H. Melchior, "Electrical characteristic ofTiN contacts ...
  • T. Hara, A. Yamanoue, H. lio, K. Inoue, G. Washidzu, ...
  • W. Cheung, H. Von Seefel H, M.Nicolet A, F.Ho, P.les, ...
  • R.C Glass, L.M Spellman, S Tanaka, R.F Davis, "Chemical and ...
  • F. Vaz, J. Ferreira, E. Ribeiro, Rebouta L., S. La ...
  • L.Eriksson, E. Harju, A. S Korhonen, K. Pischow, "Formability and ...
  • W-J. Chou, G-P. Yu, J-H. Huang, "Mechanical properties of TiN ...
  • V. Valvoda, "Structure of tlhin films of titanium nitride", _ ...
  • M. A. Baker, M. A. Monclus, C. Rebholz, P. N. ...
  • S. V Hainsworth, W. C Soh, "The effect of the ...
  • A.Kumar , D.Singh , R. Kumar , D. Kaura , ...
  • .1986 م [12] H. Holleck , " Material selection for ...
  • H. Savaloni, K. Khojier, S. Torabi, " Influence of N+ ...
  • _ Chatterjee, S.Cha nrashekhar, T.S. Sudarshan , "Deposition processes and ...
  • S.W Russell, M. J Rack, D. Adams , T. L. ...
  • P. Patsalas , C. Charitidis , S. Logothetidis, "The effect ...
  • J. Pelleg, L.Z. Zevin, S. Lungo , " R eactive ...
  • J. P. Zhao, X. Wang, Z. Y. Chen, S. O. ...
  • N. Arshi, J. Lu, Y. K. Joo, C. G. Lee, ...
  • B.E. Warren, " X-ray Diffraction", Addison Wesley Publishing Co., London, ...
  • G. Q. Yu, B. K. Tay, S. P. Lau, K. ...
  • T. G. Wang, D. Jeong , Y. Liu , O. ...
  • G. K. Williamson, R. E. Smallman, "Dislocation densities in SOme ...
  • L. J. Meng, M. P. dos Santos, _ Charact erization ...
  • نمایش کامل مراجع