اثر عوامل سرعت کشش، عملیات حرارتی و پیرشدگی بر روی خواص اپتیکی لایه های نانو ساختار و Sol-Gel ، تهیه شده به روش SiO2 ضد بازتاب
عنوان مقاله: اثر عوامل سرعت کشش، عملیات حرارتی و پیرشدگی بر روی خواص اپتیکی لایه های نانو ساختار و Sol-Gel ، تهیه شده به روش SiO2 ضد بازتاب
شناسه ملی مقاله: CMC08_074
منتشر شده در هشتمین کنفرانس ماده چگال در سال 1385
شناسه ملی مقاله: CMC08_074
منتشر شده در هشتمین کنفرانس ماده چگال در سال 1385
مشخصات نویسندگان مقاله:
مهدی نهاوندی - دانشگاه صنعتی خواجه نصیرالدین طوسی، دانشکده علوم پایه، خیابان شریعت
فلورا حشمت پور - دانشگاه صنعتی خواجه نصیرالدین طوسی، دانشکده علوم پایه، خیابان شریعت
هادی عادلخانی - سازمان انرژی اتمی ایران، مرکز تحقیقات لیزر
خلاصه مقاله:
مهدی نهاوندی - دانشگاه صنعتی خواجه نصیرالدین طوسی، دانشکده علوم پایه، خیابان شریعت
فلورا حشمت پور - دانشگاه صنعتی خواجه نصیرالدین طوسی، دانشکده علوم پایه، خیابان شریعت
هادی عادلخانی - سازمان انرژی اتمی ایران، مرکز تحقیقات لیزر
با استفاده از فرآیند Sol-Gel و با روش لایه نشانی غوطه وری، پوشش های ضد بازتاب SiO2 بر روی بستر لام میکروسکوپ تهی بررسی UV-Vis شدند . سپس اثر عوامل سرعت کشش، دمای عملیات حرارتی و مدت زمان پیرشدگی بر روی طیف عبوری نمونه های تهیه شده، در محدوده شد . افزایش سرعت کشش و نیز افزایش دمای عملیات حرارتی، موجب کاهش میزان عبور نور شد . زمان پیرشدگی سل، اثر قابل توجهی بر روی میزان عبور نداشت که حاکی از پایداری محلول سل می باشد . برای بررسی ساختار سطحی لایه ها با استفاده از میکروسکوپ الکترونی از سطح نمونه ها تصویر SEM تهره شد.
صفحه اختصاصی مقاله و دریافت فایل کامل: https://civilica.com/doc/25916/